是德科技将PathWave与三星的28FDS工艺设计套件无缝集成

2019-06-11来源: EEWORLD关键字:是德科技  PathWave

2019年4月,是德科技宣布,PathWave高级设计系统(ADS)和PathWave RFIC设计(GoldenGate)与三星最新的可互操作工艺设计套件(iPDK)集成,用于28FDS(28nm全耗尽绝缘体上硅)工艺技术。因此,设计人员可以快速启动芯片设计工作,缩短开发时间和成本。


Keysight的PathWave是一个软件平台,可实现灵活的连接设计和测试。它通过现代化工程工作流程,在整个设计,测试和制造生命周期中连接仿真和测量数据来加速产品开发。
三星的28FDS工艺技术将高性能和低功耗与对电源管理设计技术的响应性相结合,并为现代移动和消费类多媒体芯片带来了前景。三星推出的新型iPDK使设计人员能够快速创建电路设计并进行仿真。


“三星代工的28FDS技术用于设计和仿真与是德科技PathWave设计解决方案的集成,代表两家公司在是德科技代工计划下新合作的开始。”是德科技的RFIC代工项目经理Punmark Ngangom说道,“未来,双方客户将能够在PathWave ADS中开始他们的设计,或者利用互操作性功能,从三星的28FDS iPDK引入其他EDA工具的设计,并在PathWave ADS中进行精确的电路仿真和优化。”

关键字:是德科技  PathWave 编辑:冀凯 引用地址:http://news.eeworld.com.cn/Test_and_measurement/ic464020.html 本网站转载的所有的文章、图片、音频视频文件等资料的版权归版权所有人所有,本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如果本网所选内容的文章作者及编辑认为其作品不宜公开自由传播,或不应无偿使用,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。

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