ASML确认：达成协议

最新更新时间：2023-01-30

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ASML Holding NV (ASML.AS)本周六表示，它了解在几个政府就半导体制造设备出口到华的新限制达成协议方面取得了进展。据外媒报道称，美国拜登政府在当地时间本周五于华盛顿结束的谈判中，已经成功与荷兰和日本达成协议，将限制对华出口先进的芯片制造设备，其中就包括ASML Holding NV、Nikon Corp.和Tokyo Electron Ltd.等厂商的产品。自 2019 年以来，ASML 一直被限制向中出售其最先进的工具。

自那以来，美国和中国在半导体问题上的紧张关系不断恶化，促使华盛顿在 10 月对本国的芯片制造设备公司实施出口限制。

ASML 表示：“据我们了解，政府之间已采取措施达成协议，该协议将专注于先进的芯片制造技术，包括但不限于先进的光刻工具。”

这家荷兰公司补充说，这些措施预计不会对其 2023 年的财务预测产生重大影响。

该公司表示：“在它生效之前，必须详细说明并实施到立法中，这需要时间。”

它的声明是在彭博社周五报道称美国、日本和荷兰经过数月的会谈后达成协议后发表的。

ASML是全球芯片供应链中最重要的公司之一，它制造了一种称为极紫外 (EUV) 光刻机的工具，用于制造世界上最先进的芯片。2023年1月25日，ASML发布2022年第四季度及全年财报。ASML实现了净销售额64亿欧元，毛利率51.5%，净利润达18亿欧元。第四季度订单金额为63亿欧元，其中包括34亿欧元的EUV系统。2022全年，ASML净销售额达到212亿欧元，毛利率为50.5%，净利润为56亿欧元。

根据此前的分析，预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，该设备对制造尖端芯片至关重要。

DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。

目前浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，一旦浸没式光刻机被加入限制，则意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产可能也将受到影响。

不过，从美国新规来看，主要限制的是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，因此可能会限制主要应用于先进制程的浸没式光刻机的部分型号的对华出口，部分主要应用于成熟制程的浸没式光刻机型号的许可申请可能会开放。

上周三，ASML CEO Peter Wennink在位于荷兰 Veldhoven 的公司总部接受彭博社采访时曾表示，美国管制可能会加速中国光刻机的研发。

来源：网络内容综合

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