datasheet

Icbank半导体行业观察

文章数:10529 被阅读:31132597

账号入驻

3D闪存将走向何方?

2019-08-12
    阅读数:

来源:本文由公众号半导体行业观察(ID:icbank)翻译自「pc.watch」,谢谢。


3D NAND Flash Memory(3D NAND Flash,3D NAND 闪存)的高密度发展正如火如荼地进行着。通过增加存储单元(Memory Cell)在垂直方向上的堆叠(3D堆叠)数量(Word Line的堆叠数),3D NAND闪存的高密度化、大容量化已经基本得以实现。通过融合3D堆叠技术、多值存储技术(在1个存储单元上存储多个bit的技术),获得了具有较大存储容量的Silicon Die(硅芯片)。


注:Memory Stack(存储堆栈)数是笔者推测的。
存储容量达到1Tbit以上、较大的3D NAND Flash Memory的开发事例。笔者根据各家公布的数据进行汇总的。(图片出自:pc.watch)


在产品等级中最先进的3D NAND闪存最大可以把1Tbit或者1.33Tbit的庞大数据存储到1颗Silicon Die(硅芯片)上。

比方说,通过融合Samsung Electronics的把Word Line(字线)的堆叠数做到了64层(Intel和Micron Technology通过合作也做到了64层)的技术、1个存储单元上存储了4bit数据的QLC(Quadruple-Level Cell)技术,获得了1Tbit的存储容量。

此外,东芝Memory&Western Digital合作,融合字线的堆叠数做到了96层的技术和QLC技术,开发了达到1.33Tbit这一巨大容量的硅芯片。此处的1.33Tbit,在当今存储半导体业界属于全球最高值!

当前也正在开发Word Line(字线)堆叠数为128的3D NAND 闪存。SK Hynix在2019年6月公布,要通过利用128层的制造技术、每个存储单元上有3bit数据的TLC(Triple-Level Cell)技术,开发单个硅芯片的存储容量为1Tbit的3D NAND闪存。这是TLC技术方面最大的存储容量!
 

存储容量在过去20年扩到了1,000倍


回望过去,以往的“平面型NAND(Planer NAND,2D NAND)”闪存主要通过微缩技术使存储容量扩大到128Gbit,多值存储方式采用的是MLC(2bit/cell)技术和TLC技术。

3D NAND 闪存技术的实用化以128Gbit为开端,256Gbit以上的存储容量被3D NAND“独霸”!多值存储方式采用的是TLC技术,后来QLC技术也被采用。

▼大容量化的进展
首发的1Tbit超级芯片(#13.1 东芝存储、Western Digital)
NAND闪存的大容量化进展(国际学会ISSCC上公布的硅芯片)。(图片出自:国际学会SSCC执行委员会于2018年11月向媒体公布的资料。)


NAND闪存的存储密度(按照硅的面积来计算的存储容量)在2001年以后,以每年1.41倍的速度增大,相当于3年扩大了4倍的存储容量!令人震惊的是2019年依旧在延续这一增长速度!

闪存集成密度的趋势
NAND闪存存储密度的推移(国际学会ISSCC上公布的硅芯片)。(图片出自:国际学会SSCC执行委员会于2018年11月向媒体公布的资料。)

但是,时至今日,担忧3D NAND闪存未来的呼声出现在了存储半导体的研发团体(Community)里。担忧的内容大致分为2类。

其一,至此,牵引存储半导体大容量化的字线层数,在不久的将来其发展会出现“钝化”,或者说其发展会达到极限。其二,QLC方式下的多值存储技术是否会达到极限?存储单元的Bit数是否会出现无法再增加的情况?


Samsung公开谈到300多层的3D NAND闪存 


2019年8月6日,大型NAND厂家相继公布了消除以上担忧的Road Map(产品路线图)和技术要素。

今年8月6日,最大的NAND厂商Samsung Electronics公布开始量产SSD,此款SSD搭载了通过单堆栈(Single Stack)形成了136层Memory Through Hole(存储过孔)的256Gbit 3D NAND闪存。所谓136层的Memory Through Hole(存储过孔),在层数方面是历史最高值。除去Source Line、Dummy Word Line,存储单元(Memory Cell Storing)的字线层数为110-120。

此次发布中,应该关注的是他们提到的通过堆叠3个136层的单堆栈(Single Stack),最终可以堆叠300多层的的存储单元(Memory Cell)。最大厂商Samsung表示了如此强势的观点,着实罕见。

虽然还未明确300层的开发时间,不过应该已经着手研发了。


持续发展的字线堆叠数的Road Map(产品路线图)


之前东芝Memory 提到过通过Memory Through Hole(存储过孔)技术可能提高字线堆叠数。在2017年5月的国际学会IMW上,东芝提到可以实现200层的2Tbit/Die。2017年5月时间点,3D NAND闪存技术的字线堆叠数最大达到64层!我们迎来了在此基础上增加3倍的Road Map(产品路线图)!

第二年(2018年)的8月,在闪存半导体的行业大会FMS(Flash Memory Summit)上,SK Hynix表示,200层不过是一个过渡期,最终实现500层也是可能的!虽然没有公布单个Silicon Die的存储容量,从以往的趋势来看,应该是可以做到4Tbit/Die的堆叠数。

而且,今年(2019年)的8月6日,SK Hynix在FMS(Flash Memory Summit)上做了主题演讲(Key Note),演讲中很强势地提到了其Road Map(产品路线图):2020年176层、2025年500层以上、2030年800层以上。所谓的800层,理论上,是实现了8Tbit/Die的堆叠数。也就是说,用1个芯片(Single Die)就可以获得1TB!

SK Hynix在FMS(Flash Memory Summit)上做的主题演讲(Key Note)中展示的其Road Map(产品路线图)。(图片出自:笔者摄影,下同)


多值存储终于实现了5bit/cell


8月6日,又发生了令人震惊的事情!东芝存储半导体在FMS的主题演讲中表示,提高3D NAND闪存的存储密度的2个技术要素。

其一,就是多值存储技术。东芝表示,正在开发在一个存储单元(Memory Cell)上存储5bit数据的“PLC技术”。据说,主题演讲的听众当时颇受震惊!

以往的多值存储方式多采用的是一个存储单元(Memory Cell)上存储4bit的数据的QLC(Quadruple-Level Cell)技术。在QLC技术中,1个存储单元中写入了15个等级的阈值电压。相邻的阈值电压的差很小,很难调整。因此,在多值存储方式下,QLC技术达到了极限。

然而,东芝存储半导体却打破了这一认知,并展示了1个存储单元中写入31个等级的阈值电压时的实验结果。与东芝共同开发的合作伙伴Western Digital也展示了包含5bit/cell的多值存储的幻灯片。另外,把QLC改为PLC(注:笔者认为,P应该是“penta”的缩写),存储密度可以提高25%以上。

东芝存储半导体公布的QLC(4bit/cell)技术下的阈值电压分布。(图片出自:笔者摄影)


东芝存储半导体公布的PLE(5bit/cell)技术下的阈值电压分布。(图片出自:笔者摄影)

Western Digital公布的多值存储方式的说明幻灯片。(图片出自:笔者摄影)


存储密度提高2倍的终极手段


另一种技术是,通过将存储单元(Memory Cell)的字线(Word Line)分割一半,使每个Memory Through Hole(存储过孔)的存储单元(Memory Cell)数量增加2倍。很明显生产将会变得十分困难,从理论上看,具有存储密度会增加2倍的优点。 

东芝在主题演讲中,展示了将字线分割一半的Charge Trap(CT)型的单元(Cell)和Floating Gate(FG)型的单元(Cell)的试做断面的观察图像。

通过把存储单元的字线分割一半,存储密度提高两倍。左边是概念图,右侧是试做的单元的构造、断面观察图。(图片出自:笔者摄影)


3D NAND闪存的大型厂商的开发热情似乎一点儿也没有降低,超多层、多值存储、存储单元的分割等,毫无疑问任何一项都是非同一般的高难度技术,即便如此,也要硬着头干下去,或许就是这个行业特征!

*点击文末阅读原文,可阅读本文原文。

*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


今天是《半导体行业观察》为您分享的第2034期内容,欢迎关注。

推荐阅读

半导体行业观察

半导体第一垂直媒体

实时 专业 原创 深度


识别二维码,回复下方关键词,阅读更多

射频|台积电|江北新区|AMD|FPGA|EDA|集成电路|MRAM


回复 投稿,看《如何成为“半导体行业观察”的一员 》

回复 搜索,还能轻松找到其他你感兴趣的文章!

点击这里,阅读
文章原文!

About Us 关于我们 客户服务 联系方式 器件索引 网站地图 最新更新 手机版

站点相关: TI培训

北京市海淀区知春路23号集成电路设计园量子银座1305 电话:(010)82350740 邮编:100191

电子工程世界版权所有 京ICP证060456号 京ICP备10001474号 电信业务审批[2006]字第258号函 京公海网安备110108001534 Copyright © 2005-2018 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved