闪存制造商向55和45纳米节点过渡,推动浸没光刻系统需求

2007-10-30来源: 电子工程专辑关键字:DRAM  毫米  晶圆

荷兰光刻设备供应商ASML Holding发现,闪存制造商向55和45纳米节点的过渡,正在推动市场对浸没设备的需求。但该公司上季的业绩不佳。

该公司第三季度销售额为9.4亿欧元,比去年第三季度减少1.9%。净收益为1.68亿欧元,比去年同期下降2.9%。净订单合计为35套新的和5套翻新的系统,总额为8.57亿欧元。第三季度该公司出货量为54套新的和5套二手系统,第二季度出货了65套新的和4套二手系统。

ASML的首席执行官Eric Meurice表示,“闪存芯片厂商在引领趋势,它们有短期产能需求,而且在转向以45和55纳米节点技术生产的产品。中期来看,DRAM价格压力正在促使内存厂商转向成本效益更高的技术,浸没系统和工厂从200毫米转向300毫米设备将支持上述趋势。”出于这个原因以及该公司预期,来自晶圆代工厂商的订单将会增长,Meurice表示他预计第四季度订单将超过第三季度。

关键字:DRAM  毫米  晶圆

编辑: 引用地址:http://news.eeworld.com.cn/news/eda/200710/16542.html
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