技术文章:阻碍半导体制程良率的关键因素

最新更新时间:2018-11-21来源: 半导体行业观察关键字:半导体制程良率 手机看文章 扫描二维码
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随着高科技半导体技术不断的发展下,半导体产业被誉为科技业的命脉,中国半导体设备市场预估于2019年将登全球第一,成为中国经济的支柱。然而对于未来半导体发展决胜的关键,莫过于取决如何控制各制程环境中的微污染气态分子(Airborne Molecular Contamination, AMC),系为影响半导体制程良率最主要的关键因子。正因需逐步化解此议题,主要指标半导体企业都相继采用空气化学过滤器作为解决方案。

 

自1987年来,钰祥企业在AMC控制技术已有30年的经验,致力于改善微污染空气质量,提供空气微污染防治方案,持续积极研发制造空气过滤化学过滤器。滤料可装置于钰祥各式产品上,包括在深褶包覆式过滤器与大型深床式正压空气净化器等各式不同设计的空气化学过滤器。并提供符合机台端、无尘室FFU及MAU需求之解决方案,亦可依客户特殊应用需求包括污染物种及浓度、系统气流、压降和空间等,来客制解决方案。




 

30年来,钰祥企业掌握独家关键技术,同时与世界级的半导体大厂同步成长,亦要如瑞典、德国、美国的同业维持竞争力,钰祥持续投入研发,提供AMC解决方案应用于半导体、芯片厂、内存大厂、平板显示、封测业、光电、面板、电子工业、商业、无尘室、博物馆、废水处理、石塑化业及花卉农业等各个不同产业的客户群。藉由导入钰祥企业的化学滤网,可有效控制酸性、碱性及有机挥发性VOC的AMC。于美国、中国、台湾拥有多项发明专利,钰祥企业不同于其他品牌的代理商及品牌商,拥有自己的研发团队与技术能量,更拥有自我品牌「YESIANG」及制造工厂,并且通过ISO 9001:2015及ISO 14001:2015之国际双认证。目前除了与7nm同步更是已为5nm制程展开新一季的领先之优势。

 

为因应半导体各项制程的检控标准,钰祥企业为满足客户不同净化等及的要求,提供全方位之AMC控制技术解决方案,能够协助客户监测并解析制程遇到之AMC物种,替产品良率进行严格把关。除此之外,为协助客户能够掌握成本及解决废弃物处理问题,钰祥企业从2008年开始即展开垂直整合服务模式,将化学滤网导入循环经济概念,并于今年(2018)9月,率先成为全球制造业第一家通过BS 8001:2017循环经济认证之企业,并经由英国标准协会BSI台湾分公司总经理亲自授予证书。



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一直以来,钰祥企业以保护环境,同时能够降低企业产品风险,并为客户制程净化空气为己任,在技术上不断要求自我与进化,持续提升完善之AMC技术与服务,为不同产业客户提供完善的解决方案,跨越另一坡成长趋势。

 


关键字:半导体制程良率 编辑:muyan 引用地址:技术文章:阻碍半导体制程良率的关键因素

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