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明天开课!IV-CV测量实战课

最新更新时间:2022-06-29
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许多半导体组件和电子器件都需要IV与CV测量,以提取制造过程的关键信息或验证器件性能。传统上,IV测量使用SMU,CV测量使用LCR表、电容测量单元(CMU)或阻抗分析仪。测试系统必须用一个整合开关对待测物(DUT)的CV和IV两种测量结合起来,然而这将使测量精度降低并增加测试时间。


在本次线上研讨会中,您将有机会了解NI最先进的LCR仪器,可以将IV和CV测试集成在一起,同时执行f-F/f-A类测量,并了解如何将它应用在优化实验室空间,同时提高MEMS超声波传感器晶圆参数和iPDCV/IV测量精度。随着设备复杂性的持续快速上升和上市时程的缩短,通过全新的仪表架构优化半导体参数测试势在必行,而这正是本次研讨会探讨的关键议题。













周文昊

NI亚太区半导体业务发展经理_Mixed Signal

周文昊先生目前担任NI公司亚太区混合信号半导体业务发展经理。对于功率电子、混合信号电路以及高速串行数字设计和测试等领域具有丰富经验,在电子测试与测量产品研发、销售和市场推广方面具有超过二十年的从业经历。周文昊先生毕业于哈尔滨工业大学,拥有工学硕士学位。










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