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放弃FinFET!台积电2nm获重大突破

最新更新时间:2020-07-14
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7月13日消息,据台媒报道,台积电冲刺先进制程,在2nm研发上有重大突破,已成功找到路径,将切入环绕式栅极技术(gate-all-around,简称 GAA)技术。 

此前三星曾表示将在3nm率先导入GAA技术,并宣称要在2030年超过台积电,取得全球逻辑芯片代工龙头地位。


台积电研发毫不松懈,积极投入2nm研发,并获得技术重大突破,成功找到切入 GAA 路径。这次台积电能在2nm制程节点上有所突破,归功于台积电挽留了3年前即要退休的台积电最资深副总经理罗唯仁。在他带领的团队为制程技术研发进行了突破,才有了当前的成果。为此,罗唯仁还为团队举行了庆功宴,以感谢团队的辛劳。

台积电3nm制程预计明年上半年在南科18厂、P4厂试产,2022 年量产,业界以此推断,台积电2nm推出时间将在2023年到2024年间。

台积电今年4月曾表示,3nm仍会沿用FinFET(鳍式场效应晶体管)技术,主要考虑是客户在导入5nm制程后,采用同样的设计即可导入3nm制程,可以持续带给客户有成本竞争力、效能表现佳的产品。


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