下一代微机电接触技术将支持超微间距的晶圆针测
FormFactor公司(Nasdaq: FORM)宣布开发出一款突破性针测接触技术,能针对高针脚密度的超微间距组件,进行全晶圆的针测。相较于现今的针测方案,FormFactor的新技术能支持缩小10倍的间距(接触点之间的距离),在对12吋晶圆进行针测时,一次接触就能产生多出1000倍的接触点。新技术能运用在各种内存、逻辑组件、系统单芯片(SoC),以及各种参数化测试应用,包括区域数组或外围测试接触点。
FormFactor公司技术长Ben Eldridge表示:“这种超微间距全晶圆接触技术,非常适合应用于未来所有半导体组件的测试需求,不必在测试焊垫间距、密度及产能调配之间做取舍。对于我们运用最先进技术致力开发全方位产品解决方案的策略而言,这项成果发表象征另一个重大里程碑。FormFactor的技术蓝图持续引领客户的需求,让他们能针对设计进行最佳化,降低晶粒尺寸,并提高测试的产量。”
根据摩尔定律,组件晶粒尺寸持续缩小,但测试新组件功能与效能所使用的测试焊垫数量却持续攀升。为因应此发展趋势,半导体组件研发业者就必须要想出如何降低测试焊垫的实体尺寸,同时维持相当高的产出。FormFactor的新技术能降低接触点的间距,将区域数组从大约200微米减少到不到20微米。这项突破性技术运用FormFactor领先业界的微机电技术,利用一种真正垂直弹片(spring),让接触点的精准度远远超越现有机器设备所能达到的水准。这种弹片已在FormFactor位于加州Livermore的先进开发实验室公开展示。
此款新微机电接触技术预计将在三到五年内问市。
关键字:接触 密度 组件 内存
编辑: 引用地址:https://news.eeworld.com.cn/newproducts/measure/200708/14963.html
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