摘要:本文简要介绍异质结双极晶体管构成的RF IC。
关键词:无线通信 射频集成电路 场效应管 异质结管
无线通信即将进入第三代系统。近年来,从移动手机至基站无线设备的功率放大器,都采用GaAs材料的金属半导体场效应晶体管(MESFET),以代替早期的Si双极晶体管(BJT)。现代半导体材料和工艺的改进,提供更多的高性能晶体管为第三代无线设备服务。值得注意的是异质结双极晶体管(HBT)、高电子迁移率晶体管(HEMT)和SiGe晶体管等器件,目前GaAs HBT已具备向GaAs MESFET挑战的性能价格比。
异质结双极晶体管与传统的双极晶体管不同,前者的发射极材料不同于衬底材料,后者的整个材料是一样的,因而称为异质结器件。异质结双极晶体管在GaAs衬上用InGaP发射极获得成功,HBT基的射频集成电路(RFIC)已在蜂窝移动电话末级功率放大器、基站驱动级、有线电视的光纤线路驱动器上获得成功,证明HBT的性能比通用的MESFET的性能更好。
异质结双极晶体管的特点
目前上市的InGaP/InGaAs HBT器件是Stanford微器件公司的NGA系列,它在2GHz下具有19dB的增益和良好的线性度,输出功率达到+17dBm,并具有足够的动态范围,输出三阶截点(OIP3)超过+38dBm,单电源+4v下电流是80mA。两种NGA放大器集成电路的主要性能如表1所示。
表1 NGA系列放器
参 数 | NGA-489 | GNA-589 |
频率 | 0.1-8.0GHz | 0.1-6.0GHz |
增益 | 14.5dB(2GHz下) | 19dB(1GHz下) |
输出IP3 | +39.5dBm(2GHz下) | +38dBm(1GHz下) |
噪声系数 | 4.5dB | 4.5dB |
输出功率 | +17.5m(2GHz下) | +19.0dBm(1GHz下) |
供电电源 | +4.2V,80m | +5.0V,80mA |
表2 RF IC的几种工艺
参数 | Si双极 | SiGeHBT | GaAsFET | GaAs HEMT | GaAs HBT |
增益 | 一般 | 优良 | 优良 | 优良 | 优良 |
功率密度 | 优良 | 优良 | 一般 | 好 | 优良 |
效率 | 一般 | 优良 | 好 | 优良 | 优良 |
优值 | 好 | 优良 | 好 | 好 | 优良 |
击穿电压 | 好 | 好 | 优良 | 优良 | 优良 |
单电源供电 | 是 | 否 | 否 | 是 |
表3 新的NGA放大器系列
型 号 | 频率(GHz) | 增益(dB) | 输出功率(1dB压缩)(dBm) | 三阶截点(dBm) |
NGA-100 | 0.1~8.0 | 12(2GHz) | +15(2GHz) | +32(2GHz) |
NGA-200 | 0.1~0.6 | 15(2GHz) | +15(2GHz) | +32(2GHz) |
NGA-300 | 0.1~0.3 | 21(1GHz) | +15(3Ghz) | +32(2GHz) |
NGA-600 | 0.1~6.5 | 12(2GHz) | +19(2GHz) | +36(2GHz) |
NGA-700 | 0.1~2.0 | 24(2GHx) | +15(92GHz) | +36(2GHz) |
NGA-800 | 0.1~2.0 | 24(2GHz) | +19(2GHz) | +36(2GHz) |
NGA-900 | 0.1~2.0 | 27(2GHz) | +15(2GHz) | +32(2GHz) |
NGA-1000 | 0.1~2.0 | 27(2GHz) | +19(2GHz) | +36(2GHx) |
GaAs材料具有比Si材料更高的载流子迁移率,因而高频增益较高,温度特性更好。Si材料是炼工艺可拉制12英寸直径的单晶,GaAs圆片直径在6英寸以下,Si材料比GaAs材料便宜。但是GaAs衬底的半绝缘性质适于制成无湖泊元件,Si衬底的半导体性质不具备这种条件。双极晶体管的电流流动是垂直取向的,FET是纵向结构,因而在同样输出功率下双极晶体管的面积比FET小两三倍,并且在高频率下具有更高的增益。对于线性应用的放大器,性能优值由输出三阶截点(OIP3)与输出1dB压缩点(OIP3-P 1dB)的差值来表示,性能优值是器件效率的表征。MESFET的典型值是9至10dB,GaAs HBT的相应值大于15dB。由于性能优值很高,GaAs HBT的基极-发射极的异质结非线性可以省略,有利于多音互调信号的抑制。SiGe HBT器件亦具有14dB的性能优值。
在非A类放大状态的大信号下工作的器件,需要高的击穿电压。GaAs材料的导带宽度高于Si材料,在同样的掺杂浓度下GaAs器件击穿电压高于Si器件。移动电话的功率放大器的供电电压只有+3至+5V,对击穿电压要求不高。对基站工作的+10V供电电压,功率放大器选用较高的工作点,以便减少在低压大电流下的电阻损耗。另外,与GaAs HBT不同,GaAs MESFET是耗尽型器件,需要负电压供电来控制通道电流,此时正电压电源由一块电源集成电路变换极性。另外,为降低功率放大器的待机电流,GaAs MESFET采用开关去控制关态下的泄漏电流,故GaSs HBT的功率放大器电路比较简单,对于移动手机可节约出20mm的外围电路面积。GaAs HBT器件全部使用分子束外延生长技术。
器件的结温与平均失效时间(MTTF)有密切关系,大部分GaAs HBT器件采用A1 GaAs发射极,Stanford微器件公司的NGA系列采用InGaP发射极,前者的激活能较低且平均失效时间只有105小时,后者的激活能较高,结温可达到+125℃,平均失效时间超过107小时。
几种RF IC的工艺比较如表2所示。
异质结双极晶体管电路
GaAs HBT的基本电路如图1所示。这是简化的电路图,采用直流耦合的达林顿级联,输入输出阻抗50Ω,宽带级联全部使用电阻元件。第二级发射极电阻Re2调节增益和带宽的要求值,并获得3dB的滚降频率特性,第一级发射极电阻Re1决定第一和第二级的电流平衡,Re1和Re2的等效并联决定电路的输入阻抗。整个放大器的效率由第一和第二极的电流平衡来获得最佳值,电路的级性度和频率滚降特性由每级器件的最佳电流密度偏置。NGA-489集成电路和NGA-589集成电路分别在8GHz和6GHz以下带宽内具有良好线性度,以及14dB和19dB的增益。它们采用Micro-X-86和SOT-89型低热阻封装,电路驻波比是1.5:1。
除NGA-498和NGA-589外,还有用于2GHz、3GHz和6.5GHz带宽,增益在20dB以上各种型号,见表3。例如NGA-1000带宽是0.1至2.0GHz,增益27dB,三阶截点+36dBm和输出功率19dBm。由于增益较高,集成电路采用多级达林顿电路级联和电流反馈,接地电阻和电感必须减少,防止寄生振荡。典型供电电路如图2所示,电源降压电阻用于保证电路芯片获得规定电压,最好有+2到+3V压降,以保证减少电压变动的影响。NGA系列放大器具有很平坦的增益,例如NGA-489从0.1至4.0GHz的增益平坦度达到±0.5dB,群延时小于90ps,反向隔离18dB,额定工作温度-45°至+85℃。因为GaAs的热阻是Si的三倍,而工作电流密度低于25KA/cm2,热阻等于110℃/W,平均换效时间约2百万小时。根据GaAs HBT的电学性能可知,它们非常适用于移动通信手机、蜂窝基站的驱动级、有线电视和光纤的驱动放大器。GaAs HBT集成电路价格虽然比GaAs MESFET集成电路高,但是由于电路较简单,性能优于后者,目前已经可与后者争一日之长短,随着产量的增加和工艺的改进,GaAs HBT的价格还有进一步下降的余地。
Stanford微器件公司除生产InGap HBT NGA系列外,学有SiGe HBT的SGA系列放大器,用于3.5GHz以下的射频放大,性能与NGA系列相近。其它半导体生产公司如Anadigics、RF微器件、Eic、Raytheon等公司都生产与Stanford公司类似的产品。HBT的RF IC已用于2.5G的移动电话和“蓝牙”个人无线网的收发器,并且预期在3G的移动通信中获得更多的应用。
HBT的RF IC和模块的开发工作今后会有更多的成果,HBT的RF IC已在6英寸圆片上完成批量生产。频率44GHz的InP HBT单片微波集成电路由TRW公司制成,它的性能高于其它工艺的器件,特别是线性优值,即三阶截点输出功率与直流功率之比(IP3/Pdc)达到42.4/1.0,可用于毫米波接收机和高速率光纤放大器。
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