北方华创lCP刻蚀机1000腔顺利交付了

2017年12月15日，由北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的国内首台12英寸原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）设备进驻上海集成电路研发中心。北方华创微电子为国产高端装备在先进集成电路芯片生产线的应用再添新秀。 ALD设备是先进集成电路制造工艺中必不可少的薄膜沉积设备，ALD工艺具有工艺温度低、薄膜厚度控制精确及台阶覆盖率高等优点。在集成电路特征线宽发展到28纳米节点后，ALD工艺应用日益广泛。北方华创微电子自2014年开始布局ALD设备的开发计划，历时四年，成功推出中国首台应用于集成电路领域的量产型单片ALD设备——PolarisA630，应用于沉积集成电路器件中的高介电常数和金属栅极薄膜材料

集微网消息，北方华创12月15日早间公告，根据相关规定，公司符合中关村科技园区电子城科技园管理委员会的扶持政策，于2017年12月13日收到中关村科技园区管理委员会转入的“应用于集成电路领域的 300mm 合金炉设备研发项目”补助资金1,016万元。     公司称，本次收到的政府补助，预计将会增加公司 2017 年度利润总额 1016 万元。 12月5日，由北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的国内首台12英寸原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）设备进驻上海集成电路研发中心。 11月30日，北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的12英寸立式氧化炉THEORISO302进入长江存储生产线，应用于

4月21日，北方华创发布2021年度非公开发行股票预案称，公司本次非公开发行股票募集资金总额不超过85亿元，扣除发行费用后将用于“半导体装备产业化基地扩产项目（四期）”、“高端半导体装备研发项目”和“高精密电子元器件产业化基地扩产项目（三期）”的建设，并补充流动资金。 经过多年的发展，北方华创在高端电子工艺装备及精密电子元器件领域构建了坚实的技术基础，公司已建立起丰富而有竞争力的产品体系，广泛应用于半导体、材料生长及热处理、新能源、航空航天等领域。刻蚀机、PVD、CVD、ALD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、外延设备等产品在集成电路及泛半导体领域实现量产应用，成为国内主流半导体设备供应商；在电阻、电容、晶体器件等精密电子元器件