韩国首尔,2021年7月12日SK海力士(或“公司”,www.skhynix.com)宣布已于7月初开始量产适用第四代10纳米(1a)级工艺的 8Gigabit(Gb) *LPDDR4 移动端DRAM产品。
* LPDDR4 (Low Power Double Data Rate 4) – 专为移动终端开发的低功耗DRAM规格。“DDR” 为电子工程设计发展联合协会(Joint Electron Device Engineering Council,简称JEDEC)规定的DRAM规格标准名称,DDR1-2-3-4为其顺序进行换代。
自从10纳米级DRAM产品开始,半导体业内将每一代工艺节点都以标注英文字母的方式起名,此次SK海力士量产的1a纳米级工艺是继1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)之后的第四代工艺节点。公司预计从下半年开始向智能手机厂商供应适用1a纳米级技术的移动端DRAM。
此次量产的产品是SK海力士首次采用EUV技术进行量产的DRAM,其意义非凡。SK海力士在此前生产1y纳米级产品过程中曾部分采用了EUV技术,事先完成了对其稳定性的验证。
* EUV (Extreme Ultraviolet):指利用极紫外线的光刻设备
工艺的极度细微化趋势使半导体厂商陆续导入EUV设备,并将其投入在晶圆上绘制电路的光刻工艺当中。业界认为采用EUV技术的水平将成为今后决定技术领导地位的重要因素。SK海力士通过此次量产确保了EUV工艺技术的稳定性,并表示未来的1a纳米级 DRAM都将采用EUV工艺进行生产。
SK海力士期待通过新产品生产效率的提升得以确保更高的成本竞争力。相较前一代1z纳米级工艺的同样规格产品,1a纳米级DRAM在每一张晶圆中可产出的产品数量约提高了25%。 在今年全球DRAM需求持续增长的背景下,公司期待1a纳米级DRAM在全球存储半导体供需中扮演重要角色。
此次新产品稳定支持 LPDDR4 移动端DRAM规格的最高速度(4266Mbps),并相较前一代产品其功耗也降低了约20%. SK海力士认为此次新产品进一步强化了低功耗的优势,助力碳排放量的减少,充分体现了SK海力士注重ESG(环境、社会、公司治理)经营的精神理念。
在本次LPDDR4产品之后,SK海力士还计划从明年初开始将1a纳米级工艺导入于去年十月推出的全球首款DDR5 DRAM。
SK海力士1a纳米级DRAM领导小组(Task Force)的曹永万副社长表示:“此次量产的1a纳米级DRAM在生产效率和成本竞争力层面都有改善,从而可以期待更高的盈利。通过将EUV技术全面导入量产程序,SK海力士有望进一步巩固引领尖端技术的高新企业地位。”
上一篇:基础产品需求旺盛 北斗星通上半年净利同比预增超56%
下一篇:亿纬锂能计划设立合资公司建锂电材料项目
推荐阅读最新更新时间:2024-11-16 19:41
- 曝iPhone SE 4首发苹果自研5G基带:明年3月登场
- 曝iPhone 17全系首发3nm A19系列芯片:无缘台积电2nm工艺制程
- 供应链称上游元器件要大降价:国产手机现涨价潮后会主动下调售价吗
- 消息称苹果将拿出近 1 亿美元用于解除印尼 iPhone 16 系列销售禁令
- 消息称塔塔公司收购和硕在印度的唯一一家iPhone工厂,深化与苹果合作
- 苹果遭4000万英国iCloud用户集体诉讼,面临276亿元索赔
- 消息称苹果、三星超薄高密度电池均开发失败,iPhone 17 Air、Galaxy S25 Slim手机“变厚”
- 美光亮相2024年进博会,持续深耕中国市场,引领可持续发展
- Qorvo:创新技术引领下一代移动产业
- EVAL-ADuC832QSZ、用于 ADuC832 SAR 微转换器 MCU 的 ADuC8xx 评估套件
- DAPLink(M482ZID)
- MTRCCBB5643L,带有 Qorivva MPC5643L MCU 的双 3 相无传感器 BLDC 电机控制开发套件
- DK68HC11-52J-110,基于 PSD813F 系列 CPLD 的开发板
- 用于仪表的 12 位 1 通道 DAC
- 喷墨打印机可调升压电源/PD诱骗+USB总线引出
- STEVAL-ISA115V1,用于使用 VIPer Plus 的 12 V、150 mA 非隔离降压转换器的演示板 - VIPER06XS
- DK-DEV-4SGX530NES,Stratix IV GX FPGA 开发板,530 版为低功耗开发和原型设计提供了一个硬件平台
- EVAL-ADAU1966AZ,评估 ADAU1966A 高性能、低功耗多位 Sigma-Delta DAC 的评估板
- FEBFAN2315_LVA,基于具有超声波模式的 FAN2315 15A 同步降压稳压器的评估板