至纯科技：拟3000万元参与投资半导体产业基金

6月19日，随着交付给华虹集团ICRD有着特殊清洗要求的300MM单片式湿法设备搬入，2020年上半年，至纯旗下至微科技的单片清洗和槽式湿法设备在二季度出机超过了十台。 全自动12寸单片晶圆湿法刻蚀清洗设备，是在芯片制造工艺中相当重要的湿法工艺。半导体生产过程中，一旦有金属污染将损失巨大。半导体生产设备中，最高单价的就是曝光机，晶圆背面清洗的功能就是将背面的金属污染物清除，把颗粒洗净，让晶圆以最佳状态进曝光机，避免曝光机因晶圆背面缺陷问题(金属和颗粒)，把停机的时间降到最低。晶圆背面清洗的重要性及步骤数量随着工艺进展和金属层的增加而增加。 据至纯科技官方消息，至纯科技的单片湿法清洗设备，在关键性的指标工艺：晶圆表面颗粒清洗能力

集微网消息（文/春夏）10月16日，至纯科技晶圆再生基地项目正式签约，合肥新站区集成电路产业再添生力军。         根据合肥日报报道，该项目落户合肥后，将为晶合、长鑫等集成电路企业配套提供测试片、挡控片等晶圆的研磨再生服务，后期将开展电子产业相关设备的研发与生产，填补安徽省内空白。         据悉，上海至纯洁净系统科技股份有限公司成立于2000年，于2017年在上交所挂牌上市，主要为集成电路、平板显示、生物医药等行业配套进行高纯工艺系统与高纯工艺设备的设计、加工制造以及配套服务，2018年上半年其半导体行业收入占比为69.4%，客户包括上海华力、中芯国际、长江存储、合肥长鑫、士兰微等企业。      

至纯科技接受调研时表示，客户最关心的是良率和效率，其次是供应商的性价比。目前能公司的槽式在批量出货，有一段时间存在供不应求的情况。在境外客户方面，至纯科技的团队在与客户的技术团队、人员有充分沟通，不需要认证，下单反而会比较快。 2019年，至纯科技槽式的设备订单大概占国内的更新总量的45%，目前是以8寸的槽式为主，12寸为少数。槽式的酸槽24小时浸泡在高酸性、高浓度、高温的酸碱溶液中，有一定的使用寿命。前期可能做部分零配件的表面处理就可以继续投入使用，后期部分管道、零配件部分受到侵蚀，再进行回收处理的价值不大，还会最终影响到良率。不同的产品、型号的寿命不同，最终判断寿命的标准就是对良率的影响，如果对良率影响较大的话，就需要被替代，