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美光科技加快基于EUV的DRAM的开发

最新更新时间:2020-12-26
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来源:编译自「BUSINESS KOREA」,谢谢。

美光技术公司正在使用极紫外(EUV)光刻技术来加快DRAM的开发。它正在参加由世界排名第一和第二的DRAM制造商三星电子和SK Hynix发起的竞赛。

美光科技公司正在寻找工程师,他们将通过各种招聘站点负责开发EUV设施。工程师将负责开发EUV扫描仪技术,管理新的EUV设备并与ASML(世界上唯一的EUV设备生产商)进行通信。

美光在全球DRAM市场中排名第三,仅次于三星电子和SK Hynix。它的市场份额约为20%。

美光最近在NAND闪存领域首次推出了176层产品。与其他顶级DRAM制造商一样,该公司正在生产10纳米第三代(1z)产品。预计该芯片制造商将在2021年上半年推出第四代(1a)DRAM。

但是,美光与三星电子和SK海力士之间的主要区别在于,美光不会将EUV技术应用于1a DRAM。

美光公司在最近的一份声明中建议,鉴于高成本和技术局限性,它甚至可能不会将EUV技术应用于下一代DRAM“ 1-beta”产品。

美光公司副总裁Scott DerBauer表示,该公司将在1-delta产品的生产中引入EUV工艺。


*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


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