EUV光刻机未能大规模应用，主要是因为这个

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在当前半导体制程已经微缩到10 纳米以下之际，大家都寄望借助极紫外光微影设备（EUV） 能协助制程向前发展，也使得摩尔定律（Moore's Law） 能够再往下延伸。不过，就目前生产EUV 设备的艾司摩尔（ASML） 来说，因为其制造的困难度，已经积压了大量订单在手上。现在，有国外媒体指出，之所以使得艾司摩尔的EUV 设备生产不顺的主因，就是来自于设备中光学镜头供应商蔡司（Carl Zeiss） 供货进度跟不上需求所致。

外媒报导指出，艾司摩尔EUV 的光学镜头是德国蔡司公司所生产。但是，由于蔡司的镜头供货量不足，导致艾司摩尔的EUV 极紫外光微影设备生产进度缓慢。据了解，7 月份艾司摩尔曾经报告指出，至今已经积压了多达21 台EUV 的订单，每台EUV 订单成本高达1.5 亿美元。而2017 年年底前最多也就只能交付8 到9 台EUV 设备。

报导进一步指出，根据外界预估，随着三星和台积机电都宣布将在2018 年试生产内含EUV 技术的晶圆制程，使得2017 年EUV 设备的销售金额预计可达到14.82 亿美元，这比2016 年的10.36 亿美元足足成长了43%，而且这个数字在2019 年还将会进一步上升到30 亿美元。

目前，艾司摩尔的客户都是一些半导体大厂，比如台积电，三星，英特尔（Intel） 等，如果拿不到EUV 设备，新世代制程的生产计画必定会受到影响，任谁也不想看到这样的情况发生。所以，艾司摩尔在生产还将要再加把劲的努力。据了解，目前EUV 设备的生产，现在还面临一些问题需要调整。除了来自蔡司的镜头的供应不足之外，还有设备上的芯片保护膜仍需要改进。

纵观整个IC产业的发展，EUV光刻算得上是迄今为止碰到最难解决的问题。

EUV的电源将等离子体转换成13.5nm波长的光线，然后经过镜子的几重反射之后，再打落到晶圆上。现在的EUV可以在晶圆上“打印”一些小功能，但现在EUV碰到的主要问题是电源。现在的电源并不能产生足够的功率让EUV大幅度提高效率，且不能满足经济可行性。也因为这个重要原因，EUV的面世时间从上一个节点延误到现在。

从eBeam Initiative最近的一个调查中可以看出，事情似乎正在转变，业界对EUV的信心似乎正在逐渐提升。光刻机的主要供应商ASML似乎也在电源问题上取得了重大进展。光刻胶和光罩似乎也取得了长足进步。

但关于EUV的讨论依然没有停止，现在关注的问题转移到工具价格、运行时间和随机现象。

很多人都在声称，EUV将会在2018或者2019年大批量投产。如果真的是这样，业界肯定会热烈拥抱这个技术。但我们也要对EUV抱有悲观态度，毕竟任何事都有可能发生。

现阶段，在三星和台积电都宣布将试产内含EUV 技术在内的晶圆，反观半导体大厂Intel 的态度则是不急不徐。虽然，Intel 不是当前第一个采用EUV 技术量产晶圆的企业，但将来Intel 或许会是购买最多的EUV 设备的公司。

因为，2017 年三星的资本支出已经达到了170 亿美元，Intel 则是120 亿，台积电也有100 亿元，最少的是格罗方德，只有25 亿美元。但是，所有厂商在EUV 部分的花费总共才14.82 亿元。因此，预估在2019 年这个数字会进一步上升至30 亿美元之际，Intel 为加速自己的步伐，并与竞争对手相抗衡，将会比较大程度的采购EUV 设备来强化自己的技术，这就是其关键手段之一。

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