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东芝第3代碳化硅MOSFET为中高功率密度应用赋能

最新更新时间:2023-10-17
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碳化硅(SiC)是第3代半导体材料的典型代表,具有高禁带宽度、高击穿电场和高功率密度、高电导率、高热导率等优越的物理性能,应用前景广阔。


目前,东芝的碳化硅MOSFET也已经发展到了第3代,新推出的650V和1200V电压产品现已量产。其栅极驱动电路设计简单,可靠性得到进一步的提高。


碳化硅MOSFET的优势


相同功率等级的硅MOSFET相比,新一代碳化硅MOSFET导通电阻开关损耗大幅降低,适用于更高的工作频率,其高温工作特性也大大提高了器件的高温稳定性。其优点包括工作温度高、阻断电压高、损耗低、开关速度快四大方面。


在相同的功率等级下,设备中功率器件的数量、散热器体积、滤波元件体积都能大大减小,同时效率也有大幅度的提升,有助于实现车辆电气化和工业设备的小型化。


器件的基本特性


东芝第3代碳化硅MOSFET


东芝第3代碳化硅MOSFET的主要特性如下

(1)单位面积导通电阻低(R DS(ON) A)

(2)低漏源导通电阻×栅漏电荷(R DS(ON) ×Q gd

(3)低二极管正向电压:V DSF =-1.35V(典型值)@V GS =-5V

(4)内置SBD实现低V F 和高可靠性(继第二代产品之后)

(5)显著改善导通电阻和开关损耗

(6)抗噪性高,使用方便


东芝第3代碳化硅MOSFET主要规格


功能特性分析


东芝推出的第3代TWxxNxxxC系列,共有10款产品,包括5款1200V和5款650V产品。


与第2代产品一样,这些新一代MOSFET内置了与碳化硅MOSFET内部PN结二极管并联的碳化硅肖特基势垒二极管(SBD),其正向电压(V F )低至-1.35V(典型值),可以抑制R DS(on) 波动,从而提高了可靠性。


内置SBD抑制波动


不过,当MOSFET采用SBD单元时,会使MOSFET的性能下降:单位面积导通电阻(R DS(ON) A)及代表导通电阻和高速的品质因数(R on *Q gd )增大。为了降低单位面积导通电阻通常会增加芯片面积,但这又带来了单位成本的问题。


为此,东芝利用先进的碳化硅工艺显著改善了单位面积导通电阻R DS(ON) A和R on *Q gd 。新产品的R DS(ON) A比第二代产品降低了43%,从而使漏源导通电阻×栅漏电荷(R on *Q gd )降低了约80%,开关损耗约降低约20%,有助于提高设备效率。此外,由于栅极驱动电路设计简单,可防止开关噪声引起的故障。


东芝第3代碳化硅MOSFET和第二代产品的结构


新产品R DS(ON) A的改进


在V DD =800V,I D =20A,L=100μH,RG(外部栅极电阻)=4.7Ω测量条件下,测量的第2代和第3代碳化硅MOSFET的导通和关断波形如下图所示。


两代产品的导通和关断波形


产品应用方向


东芝650V和1200V第3代碳化硅MOSFET拥有更低的功耗,适用于大功率且高效、高功率密度的各类应用,如开关电源(数据中心、服务器、通信设备等)、不间断电源(UPS)、光伏逆变器、电动汽车充电站等。


东芝也在不断扩大其功率器件产品线,强化生产设施,并通过提供易于使用的高性能功率器件,为中高功率密度应用赋能,努力实现碳中和经济。



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