Silterra联手IMEC进军90nm工艺-电子工程世界

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Silterra将与总部位于比利时的研究机构IMEC合作进行90nm生产。马来西亚芯片制造商已经在考虑跳过90nm节点，直接转向65nm生产。其合作伙伴表示，他们将扩展现有的合作关系，共同开发90nm CMOS工艺技术，最终升级到65nm。

合作的工程团队将在Leuven的IMEC研究室进行90nm工艺的开发工作，这次开发有望为2008年下半年的生产作准备。这些公司表示，该技术将针对计算、数字信号处理和图形应用进行优化，并将为Silterra和其它工厂间的合作以及Silterra进军300mm制造工艺铺路。

此次声明标志着Silterra的一次转变，该公司正在引进高成本投资到90～65nm工艺能力中，据说Silterra已经准备跟随客户直接进入65nm节点的生产。

CEO Eg Kah Yee表示，Silterra正“致力于纯工厂业务”，与IMEC的开发合作是支持其客户群所“必不可少的”。

他表示，Silterra将继续致力于RF、高压和低功率等特定应用，并将其0.18微米产品转向更低的节点。“我们发现未来两到三年内有大幅的业务增长机会，我们将继续积极地投资工艺技术。”他补充道。

关键字：数字信号图形制造编辑：引用地址：https://news.eeworld.com.cn/news/eda/200706/14249.html

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