武汉新芯遭化学污染 NOR Flash缺口扩大-电子工程世界

集微网消息，武汉新芯厂内传出化学污染事件，虽然没有造成人员伤亡，但是造成NOR Flash产线制程污染，影响产能约在9000片左右，市场预料，将造成NOR Flash产能造成缺口。

由于美光及Cypress相继退出中低容量的NOR Flash市场，使中低容量产品全球供给量遭遇缺口，如果武汉新芯受到化学污染为真，有望再度推升NOR Flash报价。

外电指出，武汉新芯厂内发生化学污染，使产线晶圆受到污染，受到影响产品数量约在9000片左右，据传在武汉新芯投片的Cypress及晶豪科产品都受到影响，不过目前尚未能得知何者影响层面较高。

通常内存晶圆制造遭遇不顺的次级品，通常会以低廉价格倒入市场，这次武汉新芯遭遇的化学污染若仅是气体污染，晶圆应尚可利用，若是液体污染晶圆可能就必须整批报废。目前外界尚不清楚具体影响有多大。

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