降低对日本依赖！三星SDI已经开始开发半导体光刻胶-电子工程世界

2019年7月，日本针对三种半导体材料对韩国实施出口管制，其中包含用于极紫外（EUV）光刻工艺的光刻胶。据悉为降低对日本的依赖，三星SDI近期已经开始开发半导体光刻胶。

据BusinessKorea报道，三星SDI最近为其研究中心的光刻胶开发引入了8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备。该公司此举旨在将几乎由日本垄断的半导体光刻胶的生产内部化，并使旗下电子材料业务的单一产品组合变得多样化。

目前，日本东京应化、JSR、住友化学、信越化学等日企握有全球九成半导体光刻胶市场份额。东京应化在g线/i线和Krf光刻胶领域居龙头地位， JSR在Arf光刻胶领域市占率最高。

韩媒指出，三星SDI开发半导体光刻胶的举措将对韩国持续推进的材料国产化产生重大影响。

在韩国当地，Dongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻胶供应商一直在为本土化生产而努力。然而，许多行业专家指出，韩国需要投入更多的资金和人力成本，才能成为核心半导体材料的中心。

行业分析人士指出，如果三星SDI进入该领域并大规模生产光刻胶，将大大增强韩国的半导体材料研究基础设施。

但三星SDI并未透露光刻胶开发计划的启动和完成时间。该公司仅表示，在完成光刻胶开发后，不仅将向三星电子提供新产品，还将向其他半导体公司及使用光刻胶的公司供货。

三星SDI的一位高管表示，“我们一直在开发各种类型的光刻胶，包括 EUV光刻胶。”不过，光刻胶的商业化时间及具体细节还未敲定

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