上海新阳上半年净利增加3倍 KrF光刻胶产品已经取得订单

 8月19日，上海新阳发布半年报称，2021年上半年，公司实现营业收入为4.37亿元，同比增长45.78%；归属于上市公司股东的净利润为1.08亿元，同比增长316.82%。其业绩增长主要是公司晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长所致。

上海新阳称，公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单。KrF光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF光刻胶产品的开发和产业化”取得了阶段性成功，为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

另外，上海新阳承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单，累计收到订单3,000余万元，实现销售1,350余万元，打破了该产品一直以来被国外公司垄断的状况，为我国发展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。公司与客户合作开发的下一代产品，也已进入批量化测试阶段，公司将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。

而这些都离不开其持续不断研发投入。上半年，其研发投入总额7,653.95万元，占本期营业收入的比重为17.50%，其中半导体业务研发投入占半导体业务营收的比重为32.54%。在产品研发方面主要集中于集成电路制造用光刻胶、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、大马士革电镀添加剂、干法蚀刻清洗液、氟碳粉末涂料等项目，其中集成电路制造用光刻胶、氮化硅蚀刻液项目都已取得销售订单。

上半年，上海新阳申请发明专利15件。截至报告期末，公司已申请发明专利176件，其中国内发明专利168件（已授权66件），国际发明专利8件；已申请实用新型专利115件（已授权114件）。

上海新阳表示，公司主营业务正处于集成电路产业的密集投入及快速增长阶段，仍然保持着规模继续扩大，技术快速提升，产品不断更新的发展趋势。公司作为我国本土半导体材料行业的领先者，将会继续加大研发投入，保持技术领先和行业地位优势，把握良好的发展机遇，努力把公司打造成为中国乃至全球集成电路关键工艺材料的优质供应商。