32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增

      据荷兰ASML公司高管透露，由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增，著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工，同时还 招聘了数百名新员工，这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工，同时还预计公司将可保证各个客户对光刻设备的订单需求。

      由于消费电子设备以及PC市场对高密度芯片的需求在不断上升，ASML公司的高管表示他预计他的客户们在今明两年不会碰上所生产的芯片产品供过于求的情况。

      据ASML公司今年一季度公布的财报数据显示，这家光刻厂商今年一季度末的NXT:1950i型光刻机的存货量为28台，公司还透露今年第二季度将售出11台这样的设备。NXT:1950i 是专门为300mm 32nm及以上级别制程芯片产品设计的光刻设备。

     

      NXT:1950i和早期ASML沉浸式光刻机相同的1.35NA数据孔径投影透鏡，但加入了对平台定位技术有重大改进的新型NXT双晶圆工作台(twin stage)系統，以及改善的液体控制系統。最大每小時可产出200片300mm晶圆。这种光刻设备的售价大约在400万美元每部。台积电，联电，前特许公司以及Intel-镁光合资的IMFlash公司和一众NAND闪存厂商等是ASML沉浸式光刻机的主要客户；而Intel公司尽管在45nm制程应用了尼康和ASML两家公司的光刻机，但在32nm节点Intel使用的全部是尼康的光刻产品。