英特尔公布未来十年芯片研制路线图

    Intel CEO Paul Otellini近日对投资者透露，半导体巨头已经开始了7nm、5nm工艺的研发工作，这也是Intel第一次官方披露后10nm时代的远景规划。

　　他说：“我们的研究和开发是相当深远的，我是说(未来)十年。”

　　按照路线图，22nm工艺之后，Intel将在2013年进入14nm时代，相应产品代号Broadwell。下一站是10nm，目前还在早期研究阶段，预计2015年左右实现。

　　7nm、5nm现在都处于理论研究阶段，具体如何去做还远未定案，而且随着硅半导体技术复杂度的大幅提高，相信实现它们的代价也会高得多，即便是Intel这样的巨头也会感到很棘手，不过Paul Otellini向大家保证说，这两种新工艺“正在按时向目标迈进”。

　　如果Intel能够在未来十年内继续坚持Tick-Tock发展策略，那么7nm、5nm应该会分别在2017年、2019年来到我们身边，即便有些许延迟2020年也应该不会有问题。


　　Intel 14nm工艺将会主要在俄勒冈州D1X、亚利桑那州Fab 42、爱尔兰Fab 24三座晶圆厂投产，前者还有可能成为世界上第一家投产450毫米晶圆的工厂。