意法半导体数字隔离器采用新型厚氧化物电流隔离技术

发布者:EE小广播最新更新时间:2021-04-22 来源: EEWORLD关键字:意法半导体  数字隔离器 手机看文章 扫描二维码
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意法半导体数字隔离器采用新型厚氧化物电流隔离技术,可提高性能和可靠性


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中国,2021年4月22日——意法半导体开始量产STISO621双通道数字隔离器,该新系列高性能隔离器适合工业控制应用,可以替代普通的光耦器件。


STISO621的两个隔离区域之间数据传输速率达到100Mbit/s,脉冲失真低于3ns,采用意法半导体的6kV厚氧化层电流隔离技术。该器件有两路独立的单向通道,可以适用于处理双向数据的UART收发器接口。每路通道都有施密特触发器输入,确保隔离器有较高的抗噪能力。


在相互电流隔离的STISO621两端,电源电压彼此独立。每个电源可以在3.3V和5.5V的宽电压范围之间转换电平。65kV/µs的典型共模瞬变抗扰度(CMTI)可保护低压侧,在恶劣环境中免受高开关瞬变影响。


STISO621适用于电源、电机驱动器、仪表、逆变器、电池监测器、电器、现场总线隔离器、对尺寸要求严格的多通道隔离适配器,以及整个工业自动化系统中的常规隔离等各种工业和消费类应用。产品设计符合高压隔离设备测试规范VDE0884-10和UL 1577。


评估板EVALSTISO62XV1有助于加快多种应用场景的设计速度。意法半导体还提供了EVALSTPM-3PHISO,一个专门为三相隔离电表系统用例制作的参考设计。这个设计集成了用于分离高电压域的STISO621与意法半导体的高精度STPMS2计量前端IC,还提供在STM32微控制器运行的用于计算测量三相数据和电能质量数据的专用固件。


具有1200Vpeak的最大工作隔离电压(VIOWM)和高冲击耐受电压(VIOTM),STISO621电流隔离功能不随时间变化,在任何系统故障期间,保持电流隔离功能的完整性。有两款封装可选,STISO621采用4mm爬电距离电气间隙的SO8窄体封装,VIOTM 电压为4800V。STISO621W采用爬电距离和间隙为8mm的SO8宽体封装,VIOTM为6000V。在-40°C到125°C的温度范围皆可保证其高性能。


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