三星电子(Samsung Electronics Co.)与IBM Corp.携手合作,朝7 奈米先进制程跨进了一大步!
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引用地址:IBM携三星推全球首颗7纳米芯片采EUV技术
华尔街日报、ZDNet等多家外电报导,IBM研究实验室(IBM Research)9日宣布,IBM与伙伴格罗方德半导体 ( GlobalFoundries Inc.)、三星和纽约州立大学奈米理工学院终于突破重大瓶颈、共同打造出全球首颗7奈米晶片原型,进度超越英特尔(Intel Corp.)等竞争对手。
IBM半导体科技研究部副总裁Mukesh Khare表示,这款测试晶片首度在7奈米电晶体内加入一种叫做「矽锗」(silicon germanium,简称SiGe)的材料,并采用了极紫外光(EUV)微影技术。荷兰半导体设备大厂艾司摩尔(ASML Holding NV)本身研发的EUV设备一台要价1.5亿美元,相较之下他种微影系统一台售价只有5,000万美元。
Ars Technica 9日指出,7奈米制程晶片至少还要等两年才能具有商业用途,但IBM与其伙伴的突破仍具有重大意义。首先,这款晶片采用的制程技术低于10奈米、还是第一款使用矽锗的10奈米以下FinFET逻辑晶片,另外也是全球第一个导入EUV技术、能有商业用途的晶片设计。
英特尔对14奈米制程技术的校正进度已延迟约六个月,目前则在开发10奈米技术、有望于2016年问世。英特尔资深主管Mark Bohr最近曾表示,该公司的7奈米制程应该不需要改用EUV设备,但他并未透露更多细节。
ASML才刚于4月22日发布新闻稿宣布,美国某大客户已经下单,至少会订购15台EUV微影设备,以便支援日益增多的研发作业和未来世代制程技术的试产方案。ASML执行长Peter Wennink当时说,EUV微影设备已接近大量普及的阶段。
彭博社报导,英特尔是ASML在美国的最大客户。ING Bank NV分析师Robin van den Broek当时在接受专访时指出,这明显是英特尔想要在7奈米制程技术中导入EUV设备,而假如以正常的报价计算,这笔订单的金额将高达15亿欧元;也就是说,英特尔已将一笔为数不小的资金投入了7奈米制程科技。den Broek还说,ASML另外两家大客户分别是三星与台积电 (2330),他认为这两家业者也会跟进导入EUV。
台积电共同执行长刘德音曾在4月16日表示,台积电已开始研发7奈米制程技术,预计2017年就进入最后试产阶段的风险生产 (Risk Production)。
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