等离子体处理
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然而由于多种机制的阻碍,处理高深宽比结构时,很容易失去这种协同作用。...
作者:weixin-QNKJSY回复:0
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图5:SYRUSpro 1510真空镀膜机 图6:基底制作和移动的三种典型示例 4)处理技术 在光学涂层工业中,涂层的工艺技术和来源是众所周知的。...
作者:火辣西米秀回复:0
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放电离子化检测器 DID : 气相色谱仪中的一种检测器,主要利用放电产生等离子体间接将化合物电离产生的离子电流的方法来检测和定量分离柱中的化合物,可以检测几乎所有化合物。...
作者:sunduoze回复:7
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放电离子化检测器DID: 气相色谱仪中的一种检测器,主要利用放电产生等离子体间接将化合物电离产生的离子电流的方法来检测和定量分离柱中的化合物,可以检测几乎所有化合物。 2....
作者:sunduoze回复:1
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退役锂离子电池正极活性物质分离回收技术及装置》 一等奖 该作品在团队成员余河江、李颖、马钦仕、汤靖、黎铧蓬、刘二端、陈欣弘宇等努力下,主要针对现有退役锂离子电池正极活性物质分离方法存在的分离率低、处理成本高...
作者:okhxyyo回复:12
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但生长完毕后需要进行退火处理,最后得到的薄膜可能会存在裂纹,会影响产品的质量。 2. 分子束外延法 用MBE 法(分子束外延法)制备GaN 与MOCVD法类似,主要的区别在于镓源的不同。...
作者:石榴姐回复:0
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常规光刻技术是采用波长为2000~4500的紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。...
作者:btty038回复:4
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,集成电路工艺中所有的在氮气等不活泼气氛中进行的热处理过程都可以称为退火。...
作者:advbj回复:0
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,通常有浓硫酸处理法、铬酸处理法、碱性高锰酸钾溶液处理法和等离子体处理法。 ...
作者:ohahaha回复:0
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等离子刻蚀刻机 等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。...
作者:兰博回复:1
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设备功能:为半导体材料进行氧化处理,提供要求的氧化氛围,实现半导体预期设计的氧化处理过程,是半导体加工过程的不可缺少的一个环节。...
作者:snoweaglemcu回复:0
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哪种算法可以最好的映射GPU及矢量处理器呢?换句话说,当使用加速器和OpenCL时,哪种类型的算法更加快速?...
作者:白丁回复:6
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利用电离气体(等离子体),这层薄膜可以分子形式附着在产品表面,密不可分。这种工艺可将表面能量降低至极低的水平,低至 PTFE(聚四氟乙烯)的三分之一,因而具有极佳的防油防水性能。...
作者:eric_wang回复:14
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2.15 新增OHM实用手册系列丛书(共5本),详见12楼. 2.16 新增数字图像处理系列(2本),详见14楼 休假的时间总是很短,转眼春节假期已经结束了,接下来又该步入学习或者上班的繁忙节奏中了...
作者:tiankai001回复:155
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本帖最后由 dontium 于 2015-1-23 11:51 编辑 0 引言目前,在臭氧发生器、污水处理、烟气脱硫、高功率激光、等离子体放电等技术领域,高压逆变电源 正得到越来越多的应用。...
作者:gaochy1126回复:0
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Silicon Solar Cell Activities.pdf \\英文文章\\几篇英文文章\\tsuo.pdf \\英文文章\\几篇英文文章\\一片简介的 \\英文文章\\几篇英文文章\\快速热处理...
作者:icfb回复:7
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这里介绍下光谱类仪器的测量电路 光谱类仪器包括多种化验常用的测量仪器,如等离子体发射光谱仪,分光光度计等。其中的原理大都一致,这里略作介绍。 原理:通过检测被测量物质的特征光谱,从而进行定量测量。...
作者:aiwenzx回复:20
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适用管型:R3234/3237/3809/5916 22.荧光寿命测定、分子结构研究 光电倍增管特性:低暗计数、高电流增益,快速时间响应 适用管型:R3809U系列、R5916U系列 23.等离子体探测...
作者:tiankai001回复:333
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第4章 在有序化表面活性剂组装中纳米粒子生长的尺寸与形态控制 第5章 硅纳米团簇的合成 第6章 富勒烯与纳米粒子的二维晶体生长 第7章 嵌段共聚物胶束中的金属胶体:形成及材料性质 第8章 硅纳米粒子的等离子体生长及晶化处理...
作者:wzt回复:1
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通过研究和开发提高光电转换效率 练习题 第5章 光发射器件 5.1 发光二极管(LED) 5.2 激光二极管 练习题 第6章 电子图像显示器件 6.1 阴极射线管CRT 6.2 液晶显示器LCD 6.3 等离子体显示板...
作者:wzt回复:12