陶氏电子材料用于铜阻挡层的化学机械研磨垫

      陶氏电子材料 (Dow Electronic Materials)今天推出了 OPTIVISIONTM 4540 化学机械研磨垫，该产品的设计目标是在研磨垫的使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本。这款新研磨垫使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构，以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介电层去除率。OPTIVISION™ 4540 研磨垫拥有双孔结构以精确控制研磨，并且在研磨垫使用寿命中提供一致的研磨垫表面。

      OPTIVISION™ 4540 研磨垫可用于使用传统软垫的多种应用。尤其在铜阻挡层研磨方面，与 POLITEXTM 研磨垫产品相比，它在颤动和微划痕缺陷率方面取得了一个数量级的进步，从而实现了更高的生产良率。与 POLITEXTM 研磨垫相比，OPTIVISION™ 4540 研磨垫的四乙氧基硅烷 (TEOS) 去除率提高了40%，从而实现了更高的产量和更低的拥有成本。

      陶氏电子材料研磨垫营销经理 Dave Ventura 表示：“我们的新研磨垫目的是直接因应市场对更高产量和更低缺陷研磨垫的需求。客户测试表明，OPTIVISION™ 4540 研磨垫的稳定性超过了1000个晶圆片。这些初步结果明显表现，这款研磨垫能够在较长的使用寿命中以极低的拥有成本实现一致的高效表现。”

      这款研磨垫可与陶氏的 ACuPLANETM 5100 系列研磨液一起使用，以实现更高性能。OPTIVISION™ 4540 研磨垫拥有多种尺寸和配置，包括最新的窗口选项，可用于目前的和先进的技术节点和平台。陶氏目前已进行 OPTIVISION™ 4540 研磨垫的试样提供，该产品将于今年第四季上市。