Mentor Graphics工具通过TSMC16nm FinFET+工艺制程认证-电子工程世界

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俄勒冈威尔逊维尔，2014年9月25日– Mentor Graphics公司（NASDAQ：MENT）今日宣布，基于台积电（TSMC）的SPICE仿真工具认证程序，Analog FastSPICE (AFS™)平台（包括AFS Mega及Eldo®）通过了16nm FinFET+V0.9工艺制程认证。V1.0的认证正在进行中，将于2014年11月完成。

“Mentor的Analog FastSPICE平台、AFS Mega和Eldo已成功达到16nm FinFET+技术的精度和兼容性要求。采用TSMC 16nm FinFET+技术，客户可通过精确的验证解决方案来进行极具竞争力的设计，”TSMC设计基础设施营销部门资深总监Suk Lee称。

Analog FastSPICE平台可对纳米模拟、射频（RF)、混合信号、存储器及定制数字电路进行快速的电路验证。对于较大的电路，AFS平台还能提供大容量、高速度的混合信号仿真，包括行业仅有的综合全频谱器件噪声分析。针对存储器及其他基于阵列的电路，AFS Mega提供基于“硅精确”的仿真。

“在与TSMC的合作中，我们对Analog FastSPICE、AFS Mega和Eldo进行了TSMC的16nm FinFET+认证，这是另一个重要的里程碑，”Mentor公司DSM部门的AMS验证总经理Ravi Subramanian说。“通过持续与TSMC的密切合作，我们将确保为双方的共同客户提供能满足最复杂、整合度最高的纳米模拟、混合信号和RF设计要求的纳米验证平台。”

Mentor Graphics Calibre®和Olympus-SoC™ 平台也通过了TSMC的16nm FinFET+工艺制程认证。Olympus-SoC产品支持TSMC的16nm FinFET+设计规则，提供管脚连接、布线改善及高级低电压时序收敛功能，同时还支持MCMM优化。Calibre xACT™系列产品对运行时长和精度进行了改善，从而双方的共同客户可更充分地利用TSMC的16nm FinFET+工艺。

关键字：Mentor Graphics TSMC16nm FinFET+ 编辑：刘东丽引用地址：Mentor Graphics工具通过TSMC16nm FinFET+工艺制程认证

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