硅谷工程协会(Silicon Valley Engineering Council)22日举行今年度名人堂(Hall of Fame)颁奖典礼,今年三位得主就有胡正明与王宁国两位华人,创下纪录、意义非凡。 更特别的是,两人都是来自台湾、后又到柏克莱加大深造的同期校友,读书时就常聚在一起,王宁国说:「台湾与柏克莱出了好多杰出工程师! 」
名人堂地位崇高,今年除胡正明与王宁国,另外一位得主是ARES公司执行长史都华特( Richard J Stuart)。
从90年代至今,进入名人堂的人有:惠普创办人惠勒(William Hewlett)和帕克(David Packard);英特尔创办人摩尔 (Gordon Moore)、 诺宜斯(Robert Noyce)、应用材料公司前总裁丹梅登(Dan Maydan);苹果创办人沃兹尼克(Steve Wozniak)等人。 包括今年,只有五位华人入选,另外三人是已故柏克莱加大前校长田长霖,柏克莱加大前工学院院长葛守仁(Ernest S. Kuh),以及林氏研究集团(Lam Research)创办人林杰屏。
出生于北京、台湾长大的胡正明毕业台大电机系、柏克莱加大博士。 胡正明曾任台积电首任技术长,目前为柏克莱教授,是半导体领域先驱级人物,因为在鳍式场效晶体管(FinFET)技术上取得突破而获奖;鳍式晶体管为40多年来半导体领域重要变革,使得摩尔定律得以自2011年延续至今。
胡正明去年获得国家技术与创新奖章,由欧巴马总统颁奖;数月前他又得到中华民国蔡英文总统授予工业研究院院士,以及第十届的潘文渊奖,两个奖项也都是极具指针意义的科技大奖,先前的得奖讲的人包括张忠谋等重量级科技人。
「非常光荣,」胡正明说,名人堂是很荣耀的奖项,涵盖领域广泛,不光只是关于电子方面,「在被提名前也不晓得」。
另一位获选进入名人堂的王宁国是中原大学学士、柏克莱加大博士,曾任应用材料执行副总裁、华虹集团执行长、中芯国际集团总裁兼执行长等职。 王宁国也说,能得奖非常开心,「(我自己)从来没有想过要追求名声,但是非常努力当好一个工程师。 」
他在演讲中建议工程师必须要有坚持与决心,因为工程师并不是追求简单、快速获胜的人,而是处理困难问题,「当别人放弃时,我们追寻解答。 」另外,自己在贝尔实验室、应用材料等多年经历,也深深体验到容忍不同意见,以及与不同背景的人一起合作的重要。