推荐阅读最新更新时间:2023-10-12 23:41
技术未到,设备先行,ASML基本完成 1nm 光刻机设计
摩尔定律还没有结束。日媒报道,由于新型冠状病毒的传播,近期日本ITF于11月18日在日本东京举行了网上发布会。 IMEC公司首席执行官兼总裁Luc Van den hove首先发表了主题演讲,介绍了公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术——高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,声称摩尔定律已经走到了尽头,或者说成本太高,无利可图。 在日本众多光刻工具厂商纷纷退出EUV光刻开发阶段的同时,半导体研究机构IMEC和ASML一直在合作开发EUV光刻技术,而EUV光刻技术对于超细鳞片来说至关
[半导体设计/制造]
三星6nm、7nm EUV生产线正式开始量产
三星宣布其位于韩国华城的V1工厂已开始批量生产基于EUV(极紫外)光刻工艺的6nm和7nm芯片。 根据三星的计划,到2020年底,V1生产线的累计总投资将达到60亿美元,预计7nm及以下工艺节点的总产能将比2019年增长三倍,目前的计划是在第一季度开始交付其基于6nm和7nm的移动芯片。 据IT之家了解,V1生产线于2018年2月破土动工,并于2019年下半年开始测试晶圆生产,其第一批产品将于今年第一季度交付给客户。 韩国华城三星工厂 三星于2018年5月开启了7nm芯片的里程碑,并于2019年8月推出了基于7nm EUV工艺构建的Exynos 9825芯片组,即韩版Galaxy Note10上的那款处理器。
[半导体设计/制造]
ASML明年在台新建工厂 投资额超68亿元约为韩国5倍
据报道,荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)计划在2023年投资约300亿新台币(约人民币68.7亿元)在中国台湾省新建一个生产工厂和研发中心。 据了解,这大约是该公司宣布在韩国投资的5倍。去年11月,阿斯麦公司首席执行官温彼得(Peter Wennink)访问了在韩国京畿道华城市的阿斯麦韩国公司,并宣布到2025年该公司将在韩投资2400亿韩元。当时,京畿道政府表示,这是 ASML 有史以来在海外分公司的最大一笔投资。 报道称,阿斯麦首席运营官兼副总裁弗雷德里克·施耐德·毛诺里(Frederic Schneider-Maunoury)11月15日在中国台湾省宣布了一项计划,将在中国台湾省进行有史以来规模最大的投资。
[半导体设计/制造]
ASML延迟向中芯发货?双方回应来了
据日经新闻11月6日报道,荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔(ASML)供应极紫外光(EUV)光刻机给中芯国际的计划已经中止,多位ASML供应商关系人士指出,ASML是为了避免因供应最先进的设备给中国,担心刺激到美国,因此决定暂时中止交货。 据了解,中芯国际是在去年4月份向ASML订购了EUV光刻机,原定于2019年底交付,到2020年中期完成安装。 ASML是目前世界上唯一一家能够生产出高端光刻机的厂商,EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,它能够生产出7nm以下的设备,它的光线波长可以达到普通设备的十五分之一,因此也可以蚀刻更加精细的半导体电路,如果没有EUV,芯片研发将可能会寸步难行。 另有消息人士表示:“
[半导体设计/制造]
传台积电向ASML下单,明年订购最少13台EUV光刻机
据digitimes报道,业内消息称,台积电已经向ASML公司下了2021年至少13台EUV光刻设备的订单。 台积电近日公布10月营收为1193.03亿元新台币(单位下同),月增减少6.5%,年增12.5%。前10月合并营收为1兆970.24亿元,年增27.7%。台积电第三季度营收为3564.3亿元,季增14.7%,年增21.6%,创历史新高。税后净利润1373.1亿元,季增13.6%,年增35.9%;每股纯益5.3元,再创历史新高。
[手机便携]
EUV量产带动接单畅旺 ASML销售创记录
微影系统供应商ASML发布第四季业绩成长强劲,其销售额在本季创造了新纪录,还接了10台新一代极紫外光(EUV)微影设备的订单。 姗姗来迟的EUV终于进入量产阶段,一些尖端芯片制造商计划在今年晚些时候或最迟明年初采用。 ASML总裁兼执行长Peter Wennink在2017年表示,“EUV进入大量芯片制造的准备工作将进一步加快”。 ASML在2017年的营收达到11亿欧元(约13.4亿美元),并在第四季额外接单10台EUV系统,在未来的一年,ASML手中累积未出货的EUV设备订单高达28台。 根据ASML发布2017年的销售额约90.5亿欧元(约110.4亿美元),比2016年增加了33%。该公司在2017年的利润
[半导体设计/制造]
Intel/台积电"命根子"开放:光刻机霸主ASML要进国内
Intel CPU的命根子是什么,工艺技术绝对重要的一环,而这背后的细节,你可能并不了解。 光刻机巨头ASML才是站在三星、Intel等芯片厂商背后的高人,为了彻底控制这种技术,其获得了高通、三星、台积电、Intel的资金支持,而EUV光刻机最关键的是,被禁止出口到国内。 由于国内光刻机技术太落后,所以工艺上不去,导致国产芯片一直没有大踏步的前进,不过现在的消息是,ASML宣布与中国上海的集成电路研究开发中心合作,双方将将设立一个培训中心,用于支持ASML客户,同时还会对中国境内的集成电路工程师展开技术培训。 既然已经迈出了第一步,那么接下来EUV光刻机进入国内也不会是什么难事,要知道目前国内的半导体公司花多少钱都不可能买到
[半导体设计/制造]
采用双层晶圆处理技术,ASML助客户刷新生产纪录
半导体设备制造商ASML声称其一个主要的台湾客户采用其Twinscan i-Line scanners系统每个小时处理150个单位的晶圆,24小时不间断,达到一天处理3,596单位晶圆的记录。
ASML在本周台湾台北市半导体交易会上展示了它的成绩。Twinscan系统采用了ASML的专利:双层晶圆处理技术,两个层次是指在计量和影像功能两方面轮流进行,使得不间断进行晶圆影像过程。
该公司正准备完善一个系列的scanner,打算在生产效率方面进一步增加10%的吞吐量。The XT:400G样板有望今年底开始出货。
我们生产的i-Line系统是面向未来的,它们不但可以提供高的吞吐量,而且可以对45 nm晶圆批量生产进行
[焦点新闻]