助力晶圆生产工艺改进,海洋光学参加2022中国半导体设备年会

发布者:EE小广播最新更新时间:2022-10-25 来源: EEWORLD关键字:晶圆  生产工艺  海洋光学  半导体  光纤  光谱仪 手机看文章 扫描二维码
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中国上海,2022年10月25日 —— 世界领先的光学解决方案提供商海洋光学(Ocean Insight)将参加于10月27日~29日在无锡太湖国际博览中心召开的第十届(2022)中国半导体设备年会暨半导体设备与核心部件展示会(CSEAC)。展位号B3-117,海洋光学携最新改善半导体制造工艺的光谱解决方案参展。“凝聚芯合力,发展芯设备”是这次大会的主题,产业升级是国家的大方向,中国半导体产业正在加速前进,海洋光学利用自己在光谱技术领域的多年积累,解决创新过程中遇到的问题,与产业伙伴合力推进创新发展。

 

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光纤光谱仪因其快速、无损、原位测量的特点,在半导体行业广受青睐。作为世界上第一台微型光纤光谱仪的发明者,海洋光学多年来在半导体领域也积累了丰富的经验,其光学解决方案用于芯片制造的刻蚀终点监测、透明/半透膜膜厚检测、椭偏检测等。


海洋光学光谱仪产品不断推陈出新,为客户提供品类多样的、更丰富好用的工具帮助创新。海洋光学中国区销售总裁孙玲博士称:“光谱仪是一个核心器件,海洋光学就是光谱界的‘乐高’。我们把自己定义为科学仪器创新的奠基者,我们给客户一个包罗万象的工具箱,为客户提供做出创新仪器的全套工具模块,客户用这个工具箱可以在半导体等领域进行自己的开发,实现自己的创新理念。”


蚀刻终点监测:等离子体检测系统


在半导体行业 , 晶圆是用光刻技术制造和操作的。其中蚀刻是主要环节,当在晶圆表面蚀刻时,可使用等离子体监测跟踪蚀刻穿过晶圆层的程度,确定等离子体何时完全蚀刻特定层并到达下一层。通过监测在蚀刻期间由等离子体产生的发射光谱,可准确追踪蚀刻过程。这种终点检测对于使用基于等离子体的蚀刻工艺的半导体材料生产至关重要。


等离子体监测可以通过灵活的模块化设置完成,基于Ocean HDX光谱仪的模块化光谱设置用于监测引入不同气体和纳米颗粒后氩等离子体发射光谱的变化。测量在封闭的反应室中进行,使用光纤和余弦校正器耦合到光谱仪,通过反应腔体中的小窗口进行观察。测量结果表明模块化光谱组件可实时获取等离子体发射光谱。通过发射光谱确定的等离子体特性可用于监测和控制基于等离子体的反应过程。


Ocean HDX采用高清晰度光学系统,具有高通量和高热稳定性的特点,支持多种通讯模式,如USB、千兆以太网、Wi-Fi、AP Wi-Fi和RS-232。内置板载缓存数据处理模块,提高数据分析速度,保证数据完整。

 

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模块化光谱仪配置可用作QC工具或集成到生产线中


膜厚检测:晶圆膜厚测量系统


半导体集成电路的生产以数十次至数百次的镀膜、光刻、蚀刻、去膜、平坦等为主要工序,膜层的厚度、均匀性等直接影响芯片的质量和产量,在加工中必须不断地检测以便控制膜层的厚度。光学薄膜测厚仪是半导体生产流程中必不可少的设备之一,用于对芯片晶圆及相关半导体材料的镀膜厚度等进行检测。


海洋光学膜厚测量系统,配置有采样平台、反射探头等,基于光波的干涉现象,光束照射在薄膜表面,由于入射介质、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系数值,使得光束在透明/半透明薄膜的上下表面发生反射,反射光波相互干涉,从而形成干涉光,这些干涉光在不同相位处的强度将随着薄膜的厚度发生变化。通过对干涉光的检测,结合适当的光学模型即可计算得到薄膜的厚度。

 

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晶圆膜厚测量系统配置


QE Pro是一种高灵敏度性能出色的光谱仪,适合低光度应用。 QE Pro薄型背照式CCD探测器具有较高的量子效率,其稳健的设计使其具有很高的信噪比性能和稳定性。可通过选择内部快门,优化对暗噪声的测量。


解决问题是海洋光学的使命。海洋光学创始人Mike Morris说,“我们是问题解决者;没有问题需要解决,就没有海洋光学。” 


孙玲博士对此深有感触:“在一些新的应用领域,总有不尽人意的地方,这时候就需要做出新产品,要求我们的工具不断提升精度、提升强度,改进温度一致性、台间差、一致性等等。这些都是海洋光学最擅长的,因为我们30年专注于光谱领域进行耕耘,有了牢靠的基础和积累,我们打造出来的工具就是用来解决实际问题的。”


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