山西两会:突破光刻机用激光器等领域技术产业发展

发布者:SparkStar22最新更新时间:2021-01-30 来源: 爱集微关键字:光刻机 手机看文章 扫描二维码
随时随地手机看文章

1月20日,山西省第十三届人民代表大会第四次会议,听取并审议了省人民政府省长林武所作的《山西省人民政府工作报告》。


十三五期间,山西规上工业企业研发活动实现全覆盖。新一代半导体、手撕钢、高端碳纤维、高铁轮轴等一批关键技术和产品取得突破,信创、大数据、半导体等14个战略性新兴产业集群加快形成,战略性新兴产业增加值年均增长7.8%、快于规上工业3.2个百分点。

2021年,山西将突出创新核心地位,加快产业高质量发展。大力培育一流创新生态。加快推进“111”“1331”“136”等创新工程,开展基础技术研究和关键技术研发“双百”行动,加快光刻机用激光器、量子光学与光量子器件、智慧能源等领域技术突破。积极创建国家实验室、国家重点实验室、大科学装置和国家级超算中心。

山西还将加快发展新兴产业未来产业。信创产业着力打造百信、长城、曙光等计算机制造基地,构建“中央处理器-整机-操作系统-基础软件-应用软件-办公外设”一体化产业链,力争整机产能达到260万台。半导体产业拓展与中国电科战略合作,构建“材料-设备-芯片设计-芯片制造-封装-应用”产业链,打造太原、忻州两个高端半导体材料和器件产业集聚区。大数据产业加快推进秦淮数据、百度云计算中心等重点项目建设,扩大综改区和吕梁数据标注产业规模,争取数据灾备等国家级存储中心落地建设。光电产业做强LED、光通讯、光学镜头、相机模组、手机零部件等主导产品,加快构建“光电材料-光电器件-应用产品”产业链。

同时,山西坚持前沿引领、前瞻布局,推动人工智能、量子科技、生命科学、航空航天、深海探测、先进能源等未来产业加快发展。加快推进新基建。重点布局5G等新一代信息基础设施,再新建5G基站1.5万座,加快推动市县城区5G网络全覆盖,在5G、人工智能、大数据等领域建设一批应用场景示范工程。


关键字:光刻机 引用地址:山西两会:突破光刻机用激光器等领域技术产业发展

上一篇:数码论:浅析魅族追求盈利执念背后
下一篇:集微指数下跌4.15%,大唐电信预计去年亏损超12.5亿元

推荐阅读最新更新时间:2024-11-17 17:06

下一代光刻机,万事俱备了吗?
极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产;动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣,这要归功于 ASML 非凡的奉献精神和承诺,他将技术的极限推到了远远超出许多人认为可能的范围。 正如大家所熟知,光刻机下一个发展方向是引入High NA (0.55NA) EUVL,以实现低至 8nm 的半间距成像(half-pitch imaging)。 为了支持引入High NA EUVL,imec 和ASML 正在建立一个High NA EUV 实验室,以满足High NA 芯片制造商的早期开发需求。与此同时,我们正在与更广泛的图案化设备和材料供应商生态系统合作,以便能够访
[半导体设计/制造]
下一代<font color='red'>光刻机</font>,万事俱备了吗?
价值10亿一台,消息称Intel已有12台EUV光刻机
与台积电、三星相比,Intel在EUV光刻机上跟进的较晚,但是今年也要追上来了,有分析称Intel已经有10到·12台EUV光刻机,明年的14代酷睿将首发Intel 4 EUV工艺。 EUV光刻机是目前半导体生产中最先进也是最复杂的装备,售价约合10亿一台,只有荷兰ASML公司能够生产,虽然客户也只有Intel、台积电、三星这三家,但现在还是供不应求,去年生产了55台,预计2025年产能提升到每年90台。 尽管价值不菲,但是EUV光刻机不仅能够制造先进工艺芯片,同时还能减少工艺步骤,降低复杂度,意味着芯片成本更低,产能更大,在5nm之后的工艺生产中极为重要。 目前的Intel 10及Intel 7工艺都没有使用EUV光
[半导体设计/制造]
价值10亿一台,消息称Intel已有12台EUV<font color='red'>光刻机</font>
中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机,后续还得解决这些问题…
  据知情人士透露,中国最大的晶圆代工厂 中芯 国际已经订购了一台 EUV 设备,在中美两国贸易紧张的情况下,此举旨在缩小与市场领先者的技术差距,确保关键设备的供应。 EUV 是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备。下面就随嵌入式小编一起来了解一下相关内容吧。    中芯 国际的首台 EUV 设备购自荷兰半导体设备制造商ASML,价值1.2亿美元。尽管 中芯 目前在制造工艺上仍落后于台积电等市场领导者两到三代,此举仍突显了该公司帮助提升中国本土半导体制造技术的雄心壮志,也保证了在最先进的光刻设备方面的供应。目前包括英特尔、三星、台积电等巨头都在购买该设备,以确保在此后的先进工艺中能制造性能更强大、设计更领先的芯片。   
[嵌入式]
ASML声明:2050、2100光刻机出口许可证被部分撤销
1月2日消息,日前,荷兰光刻机巨头ASML在其官网发布声明,称部分光刻机出口许可证被撤销。 根据声明,荷兰政府最近部分撤销了2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系统的出货许可证,影响了中国大陆的一小部分客户。 ASML预计,目前撤销出口许可证或最新的美国出口管制限制不会对2023年财务前景产生重大影响。 ASML还称,在最近与美国政府的讨论中,ASML进一步澄清了美国出口管制法规的范围和影响。 美国去年10月17日公布的出口管制新规,对用于一些先进生产设施的某些次关键DUV浸没光刻系统施加了限制。 据国内媒体报道,ASML全球高级副总裁、中国区总裁沈波去年11月接受采访时表示,2023年ASML中国的业务增长很
[半导体设计/制造]
解密上海微电子新型光刻机的黑科技
近日上海微电子举行新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。目前,上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议,首台将于年内交付。 光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术,集成电路就是由投影曝光装置制成的,将具有不同掩模图案的图形成像至基底上,制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板,或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展,满足了更小线条尺寸,更大曝光面积,更高可靠性及产率,以及更低成本的需求。然而现有的光刻投影物镜依旧存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和非球面透镜加工制造成本高等问题。 为此,上海微电子于2018年12月30日申请了一项名为“一种光刻投影物镜及光刻机”的
[手机便携]
解密上海微电子新型<font color='red'>光刻机</font>的黑科技
小广播
最新手机便携文章
换一换 更多 相关热搜器件

 
EEWorld订阅号

 
EEWorld服务号

 
汽车开发圈

电子工程世界版权所有 京B2-20211791 京ICP备10001474号-1 电信业务审批[2006]字第258号函 京公网安备 11010802033920号 Copyright © 2005-2024 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved