“国科精密作为国家科技重大专项02专项支持的唯一高端光学技术研发单位，正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作。我们是一支百余名80后著名高校硕士、博士为主体并带着使命感的研发团队。团队的起源始于2007年应用光学国家重点实验室组建02专项高端光刻机曝光光学系统项目论证团队；2008年，长春光机所与上海光机所论证团队进行‘合体’，组建曝光光学系统联合论证团队，长春团队致力于投影物镜系统研发论证，上海团队致力于照明系统研发论证；2012年团队带头人杨怀江教授对团队内部架构进行调整，开启了系统工程模式，这为项目的研发成功奠定基础；2014年，长春国科精密光学技术有限公司注册成立；2016年，首套NA0.75光刻投影物镜实现交付；今年，首套NA0.75光刻照明系统实现交付。”在IC China 2017展会上，长春国科精密光学技术有限公司市场企划部经理李佩玥博士如是说。
国科精密展位
李佩玥博士强调，国科精密实现了我国曝光光学系统“从0到1”的突破，这也恰恰解答了为何称其为“中国高端精密光学产业的开拓者和引领者”。
“2013年的时候，我们还不知道是否可以完成这个项目，毕竟在此领域国内是一片空白的情况，而项目的难点在于，除了机械材料与光学材料可以通过‘拿来主义’实现供给，其他全部要靠自己，比如光学加工、光学检测等。我们团队备感使命厚重，所以周末加班、熬夜攻关都是自发的行为。值得骄傲的是，短短几年时间，我们就完成了这个项目。”李佩玥博士认为，相对于项目的成果，团队的使命感、攻坚克难精神更值得一提。
曝光光学系统
目前，国科精密在进一步进行技术提升，拉小与国外差距的同时，将推动公司的市场化进程，并积极与半导体等各类厂商进行沟通，希望切实用自身的技术服务于这些公司。
“2020年前，我们可能的商业模式就是技术授权。”李佩玥博士表示。
关键字：国科精密 曝光光学系统 IC China 光刻照明
引用地址：
九年磨一镜，这支80后团队如何实现“从0到1”
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