台积、三星、Intel激战！设备巨擘ASML乐看下半年-电子工程世界

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三星电子(Samsung Electronics Co.)、英特尔(Intel Corp.)与台积电(2330)展开半导体先进制程大竞赛，让欧洲最大半导体设备商艾司摩尔(ASML Holding NV)连带受惠！

ASML 15日发布新闻稿预测，第3季(7-9月)营收有望介于15亿欧元(相当于16.5亿美元)至16亿欧元之间、毛利率约为45%，下半年前景相当看俏。根据彭博社调查，分析师原本预期ASML Q3营收将达到15.1亿欧元。

ASML并公布Q2财报：营收由前季的16.50亿欧元略增至16.54亿欧元，毛利率由47.2%降至45.6%，而净利则由4.03亿欧元下滑至3.70亿欧元。

ASML执行长Peter Wennink在声明稿中表示，在与美国某家大客户签订大量采购的合约后，Q2期间总计接获了六台极紫外光(EUV)微影设备订单，其中两台预料会在今(2015)年出货，其余四台的出货时间则在明年；目前EUV机台的积压订单总计已有8台之多。

Wennink认为，EUV机台距离量产阶段已愈来愈近，预期今年下半年整体市况将续强，主要是拜记忆体与晶圆代工客户的需求高于预期之赐。ASML曾于4月22日发布新闻稿宣布，美国某大客户已经下单，至少会订购15台EUV微影设备。

三星、IBM Corp.才刚刚朝7奈米先进制程跨进了一大步。华尔街日报、ZDNet等多家外电报导，IBM研究实验室(IBM Research)7月9日宣布，IBM与夥伴格罗方德半导体(GlobalFoundries Inc.)、三星和纽约州立大学奈米理工学院终于突破重大瓶颈、共同打造出全球首颗7奈米晶片原型，进度超越英特尔等竞争对手。

IBM半导体科技研究部副总裁Mukesh Khare表示，这款测试晶片首度在7奈米电晶体内加入一种叫做“矽锗”(silicon germanium，简称SiGe)的材料，并采用了EUV微影技术。ASML本身研发的EUV设备一台要价1.5亿美元，相较之下他种微影系统一台售价只有5,000万美元。Ars Technica 9日指出，7奈米制程晶片至少还要等两年才能具有商业用途。

英特尔对14奈米制程技术的校正进度已延迟约六个月，目前正在开发10奈米技术、有望于2016年问世。英特尔资深主管Mark Bohr最近曾表示，该公司的7奈米制程应该不需要改用EUV设备，但他并未透露更多细节。

台积电共同执行长刘德音曾在4月16日表示，台积电已开始研发7奈米制程技术，预计2017年就进入最后试产阶段的风险生产(Risk Production)。

关键字：台积三星 Intel 编辑：刘燚引用地址：台积、三星、Intel激战！设备巨擘ASML乐看下半年

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