推荐阅读最新更新时间:2023-10-12 23:48
王毅访问荷兰,期待放行ASML EUV光刻机
彭博引述知情人士消息称,荷兰政府极有可能不会给予ASML向中国出货EUV光刻机的许可证。一年前的许可证到期后,在美国施加压力下,ASML没有获得续签,因而本该在2018年就“到货”的EUV光刻机无法完成交付给中芯国际。 近日中国外交部长王毅在欧洲五国进行访问,来到第二站荷兰后,ASML EUV光刻机是否能出口至美国的问题备受关注。彭博表示,中美关系日渐紧张,美国藉由封锁华为开始打压中国半导体产业,荷兰因为拥有光刻机巨头ASML而被卷入这场科技冷战,美国去年起便一直游说荷兰政府不要出口这一关键的半导体设备至中国。此次王毅也与荷兰方面谈到光刻机出口问题,不过另一名熟悉此事的知情人士认为,即便王毅到访,荷兰仍然不太可能会松口。 荷兰是全
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评论:ASML这次学聪明了
英特尔 (Intel)投资设备商 ASML 公司41亿美元的举动,跟在餐厅侍者上菜前就先付账的做法没有什么不同。 但ASML有理由这样做。 10年前,当半导体产业开始从200mm晶圆过渡到300mm晶圆时,晶片制造商们便说服工具供应商来为新制程的研发买单,并承诺他们将凭借着强劲的晶片销售来回馈给新系统。 然而,当网路泡沫来临时,他们却溜之大吉,更大的意外是──晶片制造商决定推迟部署300mm产能。
可想而知许多设备界的高层有多痛苦了。 特别是几年前,晶片制造商又谈论朝450mm晶圆转移的谈话之际。
许多人打从一开始就对450mm能否成真抱持怀疑态度。 现在看来,450mm是不可避免的,
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ASML进驻竹科,2019或在台湾创造500个就业机会
集微网消息,今(30)日,总部位于荷兰的半导体设备供应商台湾艾司摩尔(ASML)于台肥新竹TFC ONE大楼举行台湾总部启用典礼,新竹市长林智坚表示,欢迎更多厂商进驻竹科 X 园区。 新竹市长林智坚与ASML总部全球总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)共同为ASML台湾总部揭幕,他表示,让更多企业到新竹市投资,为台湾经济带来更大的动能,进而创造更多的就业机会与人口红利,一直是他积极努力的目标。 艾司摩尔总部全球总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)表示,ASML 在台湾成立分公司已15年,是荷兰以外全球最重要的据点,ASML台湾的员工人数在近年来快速成长,预计至今年底将超过2,500人,ASML在
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OLED喷墨打印设备商Kateeva欲解雇高管在内的144名员工!
据一份向加利福尼亚州提交的文件,OLED 制造初创企业 Kateeva 计划将裁掉 144 名员工。 根据外媒 Crunchbase消息,Kateeva 的首席人力官莫妮卡·卡尔达尼·纳西夫(Monica Kaldani-Nasif)在 1 月 27 日致国家就业发展部的一封信中写道,该公司将裁员 144 名员工。美国就业发展部随后发出的通知指出,本次裁员将在 1 月 31 日生效。 信中写到:“公司计划在裁员当日裁掉 144 名员工,以缩小目前公司的人力。不过,对于其中一部分员工,我们会提供 60 天的过渡时间”。 记者注意到,60 天的过度时间将只适用于上面所摘录文档中以“*”标出的员工。 Kaldani
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ASML 5nm光刻机遭哄抢,台积电一口气18台
如今全球芯片短缺,不仅仅已经严重营销到了科技数码产业,就连汽车产业也深受其害。 为了满足2021年的需求激增,目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求,如此之大的需求令可以说是史上的天量,三星英特尔急了。 因为目前全球能够提供最先进极紫外光刻机的只有荷兰ASML一家,在刚刚过去的2020年当中,ASML面向全球客户一共才交付了31台极紫外光刻机,也就是说台积电如果一口气吞掉了18台的话,就占尽了全球半导体新工艺产能的半数以上还要多。 而对于正在步入主流的全新5nm工艺而言,需求巨大的不仅仅是台积电一家,三星最近基于5nm工艺也可以说是风生水起。 另外今年英特尔也有提升工艺水平的
[半导体设计/制造]
IBM携三星推全球首颗7纳米芯片采EUV技术
三星电子(Samsung Electronics Co.)与IBM Corp.携手合作,朝7 奈米先进制程跨进了一大步!
华尔街日报、ZDNet等多家外电报导,IBM研究实验室(IBM Research)9日宣布,IBM与伙伴格罗方德半导体 ( GlobalFoundries Inc.)、三星和纽约州立大学奈米理工学院终于突破重大瓶颈、共同打造出全球首颗7奈米晶片原型,进度超越英特尔(Intel Corp.)等竞争对手。
IBM半导体科技研究部副总裁Mukesh Khare表示,这款测试晶片首度在7奈米电晶体内加入一种叫做「矽锗」(silicon germanium,简称SiGe)的材料,并采用了极紫
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4nm大战,三星抢先导入将EUV,研发GAAFET
晶圆代工之战,7nm制程预料由台积电胜出,4nm之战仍在激烈厮杀。 Android Authority报道称,三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备,又投入研发能取代「鳍式场效晶体管」(FinFET)的新技术,目前看来似乎较占上风。 Android
Authority报导,制程不断微缩,传统微影技术来到极限,无法解决更精密的曝光显像需求,必须改用波长更短的EUV, 才能准确刻蚀电路图。
5nm以下制程,EUV是必备工具。 三星明年生产7nm时,就会率先采用EUV,这有如让三星在6nm以下的竞赛抢先起跑,可望加快发展速度。 相较之下,台积电和格罗方德的第一代7nm制程,仍会使用传统的浸润式微影技术,第二代才会使用EUV。
[半导体设计/制造]
次世代微影技术主流之争 EUV可望2014年进入量产
目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现,而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出,EUV技术最快于2014年可望进入量产,而应用存储器制程又将早于逻辑制程,他也指出,无光罩多重电子束恐怕来不及进入量产。
目前次世代微影技术主要包括深紫外光、无光罩多重电子及浸润式微影多重曝光技术,然由于各种技术成本相对上都还高,发展也尚未成熟,因此次世代微影技术尚未有明显的主流。
IMEC 在纳米电子上向来具有先端研究技术,同时也与设备大厂爱司摩尔(ASML)进行多年的EUV技术研发,也为EUV阵营的主要代表之一。不过目前EUV技术最为人所诟病的在于
[半导体设计/制造]