光源对于光刻机的重要性不言而喻，没有光源的匹配，一切图形成像都无从谈起。从1986年开始，Cymer正式进入半导体产业，目前已有超过3500套光源安装在世界各地的光刻设备上。Cymer所占的市场份额已近70%，俨然已成为世界光源制造领域的领头羊。

　　“平板电脑和智能手机等新应用激发起了市场的热情，两者的年增长率分别有望超过50%和28%。这股市场热潮极有可能延续至2014年，同样也将驱使半导体新片制造继续快速增长。”Cymer市场及光刻应用副总裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry将会继续为32/28nm扩大产能，65/45nm产品依然会保持现有的需求。但是我们也看到，由于新技术的成本高，第一梯队与第二梯队之间的距离正在进一步拉大。”

　　DUV依然是目前绝大多数新片制造商所采用的光刻设备，Cymer除已有的优势外，还为双重掩膜应用开发了60-90W可调节的power管理产品XLR 600i，以及可根据曝光要求而调节的30-50W光源 7010。

　　“对于新片制造商来说，提高生产力、降低成本是永恒的追求。在光源系统中，激光的产生是依靠气体激发进行的。而气体做为耗材，在整个生产过程中需要不断补充，由此产生的停机维护时间是不小的浪费。针对这一问题，Cymer研发了iGLX产品，它可进行自动的气体供给优化，不再需要人工进行气体补充，从而提高了设备的生产能力。”Nigel Farrar说。

　　每当人们谈及EUV的挑战时，光源功率总是逃不开的话题。根据Cymer的技术发展路线图，在2011年量产的第一阶段，Cymer提供的EUV光源功率将>100W;第二阶段为2011-2013，功率将>250W;到了第三阶段，即2013-2016年，功率将大于350W。最近，Cymer已向ASML出货了第三套3100EUV光源。与此同时，2010年Q4第一套EUV3100光源已安装于一家存储器制造商的生产线上。EUV的发展一路上伴随着的是争议和高研发成本，Nigel Farrar对EUV的未来应用表示非常乐观，并会继续EUV的研发投入，在2011年会实现LPP EUV光源的商品化。

　　HVMⅠ HVMⅡ HVMⅢ

　　Driver Laser Power (kW) 25 35 37

　　In-band CE(%) 3 3.5 4

　　Collection Efficiency (sr) 5 5.5 5.5

　　Collector Reflectivity (%) 50 50 50

　　Clean EUV Power (W) >100 >250 >350

　　Cymer EUV Source Power Roadmap

　　早在2005年，Cymer即开始投入FPD和LED领域。有机发光二极管显示器(OLED)的大规模量产在很大程度上是因为缺乏低成本的低温多晶硅制程而有所延宕，Cymer的TCZ细光束结晶激光回火工具填补了这项空隙。“Cymer公司的光源一直用于产生更小的集成电路图形，但是利用 Cymer公司在市场上领先的准分子光源技术，可制造出适用于低温多晶硅(LTPS)的细光束结晶激光设备。不仅提升了OLED制造的产量与质量、节省了费用，同事也拓展了Cymer的技术应用领域。”据悉， Cymer的第二套TCZ Gen 4设备已安装在一位亚洲客户生产线。